Question

【题目】氯气用途十分广泛，可用于生产半导体材料硅，其生产的流程如下，下列说法不正确的是（ ）石英砂 粗硅 四氯化硅 纯硅．
A.①③是置换反应，②是化合反应
B.高温下，焦炭与氢气的还原性均强于硅
C.任一反应中，每消耗或生成28 g硅，均转移4 mol电子
D.如果焦炭不足，反应①会释放CO2气体

Answer 1

【答案】D
【解析】解：A．二氧化硅与碳反应生成硅和一氧化碳，四氯化硅与氢气反应生成硅和氯化氢，都是置换反应，硅和氯气反应生成四氯化硅，是化合反应，故A正确； B．二氧化硅与碳反应生成硅和一氧化碳，四氯化硅与氢气反应生成硅和氯化氢，根据还原剂的还原性大于还原产物的还原性，则高温下，焦炭与氢气的还原性均强于硅，故B正确；
C．28 g硅的物质的量为1mol，每消耗或生成1个硅，化合价均变化4，即均转移4个电子，所以每消耗或生成28 g硅，均转移4 mol电子，故C正确；
D、无论焦炭是否过量，均生成CO，不会生成二氧化碳，故D错误．
故选D．