题目内容

【题目】硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式___________

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式___________;H2还原SiHCl3过程中若混有O2,可能引起的后果是___________

(2)下列有关硅材料的说法正确的是___________(填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

【答案】 SiHCl3+H2Si+3HCl SiHCl3+3H2OH2SiO3↓+3HCl↑+H2 氧气与氢气混合,可能引起爆炸;氧气可能会氧化SiHCl3 BC

【解析】

1)①H2还原SiHCl3可制备Si,根据原子守恒可知同时还有氯化氢生成,则化学反应方程式为SiHCl3+H2Si+3HCl

SiHCl3H2O反应生成H2SiO3HClH2,根据原子守恒可知反应的方程式为SiHCl3+3H2OH2SiO3↓+3HCl↑+H2↑;用H2还原SiHCl3过程中若混入O2,由于氢气是可燃性气体,与氧气发生爆炸;另外氧气具有强氧化性,氧气也可能会氧化SiHCl3

2A、碳化硅的熔点高、性质稳定,可用于生产砂纸、砂轮的磨料,不能用于生产耐高温水泥,A错误;

B、氮化硅的熔点高、硬度大,可用于制作高温陶瓷和轴承,B正确;

CSiO2用于制光导纤维,C正确;

D、普通玻璃是由石英砂(SiO2)、石灰石、纯碱高温下反应制成的,玻璃是混合物,没有固定熔点,D错误;

ESi与盐酸不反应,E错误。

答案选BC

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