题目内容
【题目】L、M、R、T、W是原子序数依次增大的短周期主族元素，M、T在周期表中的相对位置如下表，L与R原子的最外层电子数相同，R的单质是一种常见的半导体材料。
M | |
T |
请回答下列问题：
(1)T离子的结构示意图为__________，元素W在周期表中位于第______族，M单质分子的电子式为__________。
(2)R是组成玻璃的元素之一，不能用带磨口玻璃塞的试剂瓶盛放氢氧化钠溶液的原因是(用化学方程式表示)__________。
(3)下列有关相应元素非金属性强弱比较的说法，正确的是(填序号)__________。
a．M的气态氢化物比R的气态氢化物稳定，则非金属性M强于R
b．高温下，L的单质能从R的最高价氧化物中置换出R，则非金属性L强于R
c．W的核电荷数比T多，原子半径比T小，得电子能力强，则非金属性W强于T
(4)工业上可用二氧化硅、氯气和焦炭在高温条件下制备RW4，该反应中除RW4外的另一种产物可用于工业炼铁。制备RW4的化学方程式为______________________________。
【答案】 
ⅦA 
SiO2+2NaOH==Na2SiO3+H2O ac 2Cl2+SiO2+2C
SiCl4+2CO
【解析】试题分析：R的单质是一种常见的半导体材料，R是Si元素；L与R原子的最外层电子数相同，L是C元素；L、M、R、T、W是原子序数依次增大，根据M、T在周期表中的相对位置，M是ⅤA族元素、T是ⅥA族元素、W是ⅦA族元素，所以M、T、W分别是N、S、Cl元素。
解析：根据以上分析，(1)S2-的结构示意图为
，氯元素在周期表中位于第3周期，第ⅦA族，N2分子中存在氮氮三键，电子式为
。
(2)二氧化硅与氢氧化钠反应生成硅酸钠和水，所以不能用带磨口玻璃塞的试剂瓶盛放氢氧化钠溶液，化学方程式为SiO2+2NaOH==Na2SiO3+H2O。
(3)下列有关相应元素非金属性强弱比较的说法，正确的是(填序号)__________。
NH3比SiH4稳定，则非金属性N强于Si，故a增强。
高温下单质碳能从二氧化硅中置换出硅，表现碳的还原性，不能推出非金属性C强于Si，故b错误；
得电子能力越强，非金属性越强，故c正确；
(4)工业上可用二氧化硅、氯气和焦炭在高温条件下生成SiCl4和CO。制备SiCl4的反应方程式为2Cl2+SiO2+2C
SiCl4+2CO。
【题目】热化学和各类平衡等都是化学研究的对象
(1)已知：①2O2(g)+N2(g)==N2O4(l) △H1；
②N2(g)+2H2(g)==N2H4(g) △H2；
③O2(g)+2H2(g)==2H2O(g) △H3；
④2N2H4(g) +N2O4(1)==3N2(g)+4H2O(g) △H4。
上述反成热效应之间的关系式为△H4 =_______(用含△H1、△H2、△H3的代数式表示）。
(2)将不同量的H2O(g)和CO(g)分别通入体积为2L的恒容密闭容器中，进行反应：H2O(g)+CO(g) 
H2(g)+CO2(g)，得到如下表三组数据：
实验组 | 温度/℃ | 起始量/mol | 平衡量/mol | 达到平衡 所需时间/min | ||
H2O | CO | H2 | CO | |||
1 | 800 | 2 | 4 | 4/3 | 8/3 | 6 |
2 | 900 | 1 | 2 | 0.4 | 1.6 | 3 |
3 | 900 | a | b | c | d | t |
①该反应的逆反应为______(填“吸热”或“放热”）反应；实验2的平衡常数K=________。
②若实验3达到平衡时与实验2达到平衡状态时各物质的体积分数分别相等，且t<3，则a、b应满足的关系是_______(用含a、b的代数式表示）。
③若保持温度和容积不变，向实验1再增加4molH2O(g)，使反应达到新的平衡。下列说法不正确的是______（填序号）。
A.新、旧平衡时容器内气体的压强之比是5 : 3
B.新平衡时H2O的转化率增大
C.新平衡时CO的浓度是0.8 mol·L-l
D.新、旧平衡时容器内气体密度之比为5 : 3
(3)室温下，用0.1 mol·L-l的KOH溶液滴定10.00Ml0.10 mol·L-l H2C2O4 (二元弱酸）溶液，所得滴定曲线如图(混合溶液的体积可看成混合前溶液的体积之和)。请回答下列问题：
a.点②所示溶液中的电荷守恒式为________________________。
b.点③所示溶液中所有离子的浓度由大到小的顺序为___________________。
c.成④所示溶液中c(K+)+c(H2C2O4)+c(HC2O4-)+c(C2O42-)=________mol/L。
