题目内容

二氧化硅晶体中硅、氧原子间存在


  1. A.
    共价键
  2. B.
    离子键
  3. C.
    分子间作用力
  4. D.
    氢键
A
练习册系列答案
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晶体硅是一种重要的非金属材料，制备高纯硅的主要流程如图所示：

已知SiHCl3能与H2O强烈反应，生成一种可燃烧的单质气体和两种酸．请回答下列问题：
（1）写出制备粗硅的化学方程式
SiO2+2C
 高温 
.
 
Si+2CO
SiO2+2C
 高温 
.
 
Si+2CO
．
（2）在生成SiHCl3的反应中，还原剂与还原产物的质量比为
14：1
14：1
．
（3）整个制备过程必须控制无水无氧，若有水可能发生的反应是
3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
 高温 
.
 
CO+H2
3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
 高温 
.
 
CO+H2
．
（4）下列关于硅及其化合物的叙述错误的是
B C D
B C D
（填字母代号）
A．二氧化硅晶体中硅氧原子间以共价键结合
B．用于现代通讯的光导纤维的主要成分是高纯度的硅
C．硅与碳位于同一主族，性质相似，在自然界中广泛存在着游离态的硅
D．SiO2和CO2都是酸性氧化物，均可与强碱（如NaOH）溶液反应，而不与任何酸反应．
硅是构成无机非金属材料的一种主要元素，下列有关硅的化合物的叙述错误的是（　　）
A、氮化硅陶瓷是一种新型无机非金属材料，其化学式为Si3N4B、碳化硅（SiC）的硬度大，熔点高，可用于制作高温结构陶瓷和轴承C、光导纤维是一种新型无机非金属材料，其主要成分为SiO2D、二氧化硅为立体网状结构，其晶体中硅原子和硅氧单键个数之比为1：2

晶体硅是一种重要的非金属材料，制备高纯硅的主要流程如图所示：

已知SiHCl3能与H2O强烈反应，生成一种可燃烧的单质气体和两种酸．请回答下列问题：
（1）写出制备粗硅的化学方程式______．
（2）在生成SiHCl3的反应中，还原剂与还原产物的质量比为______．
（3）整个制备过程必须控制无水无氧，若有水可能发生的反应是______．
（4）下列关于硅及其化合物的叙述错误的是______（填字母代号）
A．二氧化硅晶体中硅氧原子间以共价键结合
B．用于现代通讯的光导纤维的主要成分是高纯度的硅
C．硅与碳位于同一主族，性质相似，在自然界中广泛存在着游离态的硅
D．SiO2和CO2都是酸性氧化物，均可与强碱（如NaOH）溶液反应，而不与任何酸反应．
晶体硅是一种重要的非金属材料，制备高纯硅的主要流程如图所示：

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已知SiHCl3能与H2O强烈反应，生成一种可燃烧的单质气体和两种酸．请回答下列问题：
（1）写出制备粗硅的化学方程式______．
（2）在生成SiHCl3的反应中，还原剂与还原产物的质量比为______．
（3）整个制备过程必须控制无水无氧，若有水可能发生的反应是______．
（4）下列关于硅及其化合物的叙述错误的是______（填字母代号）
A．二氧化硅晶体中硅氧原子间以共价键结合
B．用于现代通讯的光导纤维的主要成分是高纯度的硅
C．硅与碳位于同一主族，性质相似，在自然界中广泛存在着游离态的硅
D．SiO2和CO2都是酸性氧化物，均可与强碱（如NaOH）溶液反应，而不与任何酸反应．
晶体硅是一种重要的非金属材料，制备高纯硅的主要流程如图所示：

已知SiHCl3能与H2O强烈反应，生成一种可燃烧的单质气体和两种酸．请回答下列问题：
（1）写出制备粗硅的化学方程式    ．
（2）在生成SiHCl3的反应中，还原剂与还原产物的质量比为    ．
（3）整个制备过程必须控制无水无氧，若有水可能发生的反应是    ．
（4）下列关于硅及其化合物的叙述错误的是    （填字母代号）
A．二氧化硅晶体中硅氧原子间以共价键结合
B．用于现代通讯的光导纤维的主要成分是高纯度的硅
C．硅与碳位于同一主族，性质相似，在自然界中广泛存在着游离态的硅
D．SiO2和CO2都是酸性氧化物，均可与强碱（如NaOH）溶液反应，而不与任何酸反应．

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