题目内容

【题目】某同学购买了一瓶:“84消毒液,包装说明如下:

净含量:1000 mL 密度:1.19 g·cm-3

主要成分:25%NaC1O

使用方法:稀释l00(体积比)后使用

注意亊项:密封保存,易吸收空气中的CO2变质

请根据以上信息和相关知识判断,下列分析不正确的是

A. “84消毒液的物质的量浓度约为4.0 mol·L-1

B. 一瓶该“84消毒液中含NaC1O的质量为297.5g

C. l00mL“84消毒液稀释100倍后用以消毒,稀释后的溶液中c(Na+)约为0.04 mol·L-1

D. 参阅该“84消毒液的配方,欲用NaClO固体配制25%NaClO的消毐液480 mL,需要称量的NaClO固体质量为I43g

【答案】D

【解析】A根据可知该“84消毒液”的物质的量浓度为:cNaClO=1000×1.19×25%/74.5mol/L≈4.0mol/LA正确;B一瓶该“84消毒液中含NaC1O的质量为1000mL×1.19g/mL×25%297.5gB正确;C.取100mL该“84消毒液”稀释100倍后用以消毒,稀释过程中钠离子的物质的量不变,则稀释后的溶液中cNa+=4mol/L/100=0.04molL-1C正确;D.实验室不存在480mL容量瓶,应用500mL容量瓶配制,则nNaClO=0.5L×4.0mol/L=2.0molmNaClO=2.0mol×74.5g/mol=149gD错误;答案选D

练习册系列答案
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(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅的主要方法,其生产过程示意图如图所示.

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式,H2还原SiHCl3过程中若混入O2 , 可能引起的后果是
(2)硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡.写出实验现象其产生原因:
①2O2(g)+N2(g)=N2O4 , (l)△H1
②N2(g)+2H2(g)=N2H4(l)△H2
③O2(g)+2H2(g)=2H2O(g)△H3
④2N2 H4 (1)+N2O4 (1)=3N2 (g)+4H2O(g)△H4=﹣1048.9kJ/mol
上述反应热效应之间的关系式为△H4= , 联氨和N2O4可作为火箭助推剂,折算在标准状况下的数据,燃爆后气体的体积与燃爆前的体积之比为:

N2H4

N2O4

密度/g/cm3

1.004

1.44


(3)联氨为二元弱減,在水中的电离方程式与氨相似,联氨第一步电离反应的平衡常数值为(已知:N2H4+H+N2H5+的K=8.7×107;KW=1.0×1014),.联氨与硫酸形成的酸式盐的化学式为
(4)联氨是一种常用的还原剂.向装有少量AgBr的试管中加入联氨溶液,观察到的现象是 . 联氨可用于处理锅炉水中的氧;防止锅炉被腐蚀,理论上1kg的联氨可除去水中溶解的O2kg;与使用Na2SO3处理水中溶解的O2相比,联氨的优点是

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