Question

【题目】由SiO2制备高纯度硅的工业流程如图所示：

下列说法错误的是

A. SiO2与纯硅都是硬度大、熔沸点高的晶体

B. X为CO气体

C. 反应②产生的H2与反应③产生的HCl可以循环使用

D. 反应①②③均为在高温条件下的非氧化还原反应

Answer 1

【答案】D

【解析】

A项、SiO2和Si都是原子晶体，硬度大、熔沸点高，A正确；

B项、反应①为SiO2+2CSi+2CO↑，可知X为CO气体，B正确；

C项、由生产高纯硅的流程示意图可知，H2和HCI既是反应物，又是生成物，所以可重复利用的物质是H2和HCl，C正确；

D项、反应①为SiO2+2CSi+2CO↑，反应②Si(粗)+3HCl SiHCI3+H2，反应③SiHCI3+H2 Si(粗)+3HCI，三个方程式中元素的化合价均发生变化，均属于氧化还原反应，D错误；

故本题选D。