题目内容
【题目】二氯二氢硅(SiH2Cl2)常用于外延法工艺中重要的硅源。易燃、有毒,与水接触易水解,沸点8.2℃。在铜催化作用下,HCl与硅在25O-260℃反应可以制得SiH2Cl2。
(1)利用浓硫酸、浓盐酸为原料,选用A装置制取HCl,利用了浓硫酸的_____性。
(2)D装置中生成二氯二氢硅的化学方程式为____________。
(3)按照气体从左到右方向,制取SiH2Cl2的装置(h 处用止水夹夹好)连接次序为____________a→ ( ) → ( )→ ( )→ ( )→ ( )→ ( )→ ( )(填仪器接口的字母,其中装置C用到2次)。
(4)按从左到右的顺序,前面装置C中装的药品为________,后面装置C的作用为________。
(5)反应除生成二氯二氢硅之外,还会生成H2和______、____。
(6)新的制取SiH2Cl2方法是:往硅粉中先通入Cl2在300-350℃反应生成SiCl4,然后再与HCl在250-260℃反应,可以大大提高产率。如果通人气体次序相反,结果会_______(用化学方程式表示)。
【答案】 吸水 Si+2HCl 250℃~260℃ SiH2Cl2 defgbcd P2O5或CaCl2 尾气处理和防止空气中的水进入B中 SiCl4 SiHCl3等 SiH2Cl2+2Cl2SiCl4+2HCl (或SiH2Cl2+Cl2SiHCl3+HCl)
【解析】(1)利用浓硫酸、浓盐酸为原料,浓硫酸有吸水性,使浓盐酸更易挥发出HCl;
(2)D装置中生成二氯二氢硅的化学方程式为Si+2HClSiH2Cl2;
(3)A装置制取HCl,连接C装置干燥,为a-d-e,从f进入D中反应,SiH2Cl2从g处挥发,在B装置中收集,SiH2Cl2密度比空气重,导气管应长进短出,为防止空气中的水进入B中,则应在B后接干燥管,故顺序为:adefgbcde;
(4)C装置干燥氯化氢气体,故应选酸性P2O5或中性CaCl2干燥剂,后面装置C的作用为尾气处理和防止空气中的水进入B中;
(5)反应除生成二氯二氢硅之外,还会发生反应3Si+10HCl2SiHCl3+SiCl4+4H2,生成H2和SiCl4、SiHCl3等;
(6)往硅粉中先通入Cl2在300-350℃反应生成SiCl4,然后再与HCl在250-260℃反应,可以大大提高产率.如果通人气体次序相反,结果会SiH2Cl2与Cl2反应,SiH2Cl2+2Cl2SiCl4+2HCl(或SiH2Cl2+Cl2SiHCl3+HCl)。
【题目】
(1)根据计算用托盘天平需称取氯化钠_________ g;
(2)配制溶液时,除需要烧杯、玻璃棒外,还必须用到的玻璃仪器有 ;
(3)配制溶液有下列几步操作:a.溶解,b.摇匀,c.洗涤,d.冷却,e.称量,f.将溶液移至容量瓶,g.定容.正确的操作顺序是 ;
(4)下列操作结果使溶液物质的量浓度偏低的是___ ______ ;
A.没有将洗涤液转入容量瓶中 |
B.加水定容时,水的量超过了刻度线 |
C.定容时,俯视容量瓶的刻度线 |
D.容量瓶洗涤后,未经干燥处理 |
(5)取出该NaCl溶液10mL加水稀释到200mL,稀释后溶液中NaCl的物质的量浓度是_________