题目内容
【题目】高纯二氧化硅可用来制造光纤。某蛇纹石的成分见下表：
通过下图流程可由蛇纹石制备较纯净的二氧化硅。
(1)蛇纹石中涉及的可溶性金属氧化物有___________________(写化学式)。
(2)步骤①中涉及SiO2 反应的离子方程式为_________________________ 。
(3)滤渣 A的成分有__________________ (填化学式)。
(4)步骤②中洗涤沉淀的方法是 _____________________________________________。
(5)步骤③反应的化学方程式为 _______________________________________；实验室进行步骤③需要用到的仪器有坩埚、泥三角、酒精灯、玻璃棒、________和____________。
【答案】Na2O、K2O SiO2+2OH-=SiO32- +H2O MgO和Fe2O3 向漏斗中注入蒸馏水至浸没沉淀，让水自然流下，重复操作2~3次 H2SiO3 
SiO2+H2O 坩埚钳 三脚架
【解析】
用足量的氢氧化钠浸泡，二氧化硅可以和氢氧化钠反应生成硅酸钠，过滤得滤液A为硅酸钠溶液，MgO和Fe2O3不能与氢氧化钠反应，滤渣A为MgO和Fe2O3，氧化钠、氧化钾与水反应生成氢氧化钠和氢氧化钾；硅酸钠溶液中加入盐酸生成硅酸沉淀，过滤、洗涤得滤渣B为硅酸，煅烧硅酸可得二氧化硅；
(1)氧化钠、氧化钾、氧化铁、氧化镁、二氧化硅中，氧化钠、氧化钾为可溶性金属氧化物；
(2)二氧化硅为酸性氧化物，与氢氧化钠反应生成硅酸钠和水；
(3)与氢氧化钠溶液不反应的氧化物为滤渣；
(4)加入盐酸后的沉淀为硅酸，选择洗涤过滤后的硅酸的方法；
(5)硅酸不稳定受热易分解生成二氧化硅和水；依据灼烧固体操作选择合适的仪器。
(1)蛇纹石中含有的可溶性金属氧化物有Na2O、K2O，它们能与水反应生成氢氧化钠和氢氧化钾；
(2)二氧化硅属于酸性氧化物，可与氢氧化钠溶液反应生成硅酸钠和水，反应的离子方程式为：SiO2+2OH-=SiO32- +H2O；
(3)氧化钠与氧化钾属于可溶性氧化物，氧化铝属于两性氧化物，二氧化硅属于酸性氧化物，上述四种物质都能溶解在氢氧化钠溶液中，氧化镁和氧化铁属于碱性氧化物且难溶于水，因此，滤渣A的成分有MgO和Fe2O3；
(4)步骤②生成沉淀的成分是硅酸，洗涤过滤出的沉淀的方法是：向过滤器中注入蒸馏水至浸没沉淀，待水自然流出后，重复上述操作两到三次；
(5)步骤③用灼烧的方法使硅酸分解生成二氧化硅，化学方程式为：H2SiO3SiO2+H2O，实验室灼烧固体时需要用到的仪器有坩埚、泥三角、酒精灯、玻璃棒、坩埚钳和三脚架。
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【题目】向容积均为0.5L的甲、乙、丙三个密闭容器中分别充入一定量的A和B，发生反应：A(g)＋xB(g)
2C(g)。各容器的反应温度、反应物起始量，反应过程中C的浓度随时间变化关系分别如图表所示：
容器 | 甲 | 乙 | 丙 |
温度/℃ | T1 | T2 | T2 |
反应物起始量 | 1.5molA 0.5molB | 1.5molA 0.5molB | 3.0molA 1.0molB |
则： (1)该反应为____________（填 “放热反应”或“吸热反应”）
(2)丙容器中前5分钟的A的反应速率为__________
(3)该可逆反应达到平衡后，为在提高反应速率的同时提高B的转化率，可采取的措施有___________(填标号)。
a．按体积比1：1再充入A和B b．改用高效催化剂 c．升高温度 d．增加A的浓度 e. 增加C的浓度
(4)乙容器中的化学平衡常数为_____________