题目内容
【题目】电子工业中用过量的FeCl3溶液溶解电路板中的铜箔时，会产生大量废液。由该废液回收铜并得到净水剂（FeCl36H2O）的步骤如下：
I.在废液中加入过量铁粉，过滤；
II.向I的滤渣中加入过量试剂A，充分反应后，过滤，得到铜；
III.合并I和II中的滤液，通入足量氯气；
IV.……，得到FeCl36H2O晶体。
（1）用FeCl3溶液腐蚀铜箔的离子方程式是_____________；
（2）试剂A是______；
（3）取少量步骤III所得的溶液于试管中，能够证明通入氯气足量的是______；
a. 检验Cl2的存在 b. 检验Fe3+的存在 c. 检验Fe2+的不存在
（4）完成步骤IV需要用到的实验装置是______（填字母）。
a
b
c
d
【答案】2Fe3+ + Cu = 2Fe2+ + Cu2+ 盐酸 ac ab
【解析】
⑴用FeCl3溶液腐蚀铜箔生成氯化铜和氯化亚铁，其离子方程式是2Fe3+ + Cu = 2Fe2+ + Cu2+。
⑵滤渣中含有铁和铜，用盐酸溶解铁。
⑶取少量步骤III所得的溶液于试管中，如果含有亚铁离子，说明氯气不足量，如果没有亚铁离子，说明氯气足量，或者直接检验氯气是否存在。
⑷完成步骤IV主要是从溶液中蒸发浓缩、冷却结晶、过滤。
⑴用FeCl3溶液腐蚀铜箔生成氯化铜和氯化亚铁，其离子方程式是2Fe3+ + Cu = 2Fe2+ + Cu2+，故答案为：2Fe3+ + Cu = 2Fe2+ + Cu2+。
⑵滤渣中含有铁和铜，可用盐酸溶解铁，故答案为：盐酸。
⑶取少量步骤III所得的溶液于试管中，如果含有亚铁离子，说明氯气不足量，如果没有亚铁离子，说明氯气足量，或者直接检验氯气是否存在，故答案为：ac。
⑷完成步骤IV主要是从溶液中蒸发浓缩、冷却结晶、过滤，因此需要用到的实验装置是ab，故答案为：ab。
