题目内容
A的分子式为C2H6O2，以A为原料，按下图所示流程合成一种常用的光敏高分子材料G，其结构简式为：
。
已知：①—CH2OH+—CH2OH
—CH2OCH2—+H2O
②
+
+H2O
请回答下列问题：
（1）A的名称是 ：F—→G的反应类型是
B的核磁共振氢谱上共有 种吸收峰。
C的结构简式是 。
A—→B的化学方程式是 。
B+D—→E的化学方程式是 。
写出同时满足下列条件的D的所有同分异构体的结构简式：
①属于酯类且苯环上只有一个取代基 ②除苯环外不再含其他环状结构
（1）乙二醇 加聚反应；（2）3；
（3）
（4）2HOCH2CH2OH
HOCH2CH2OCH2CH2OH+H2O
（5）
+HO(CH2)2O(CH2)2OH
CH=CHCOO(CH2)2O(CH2)2OH+ H2O
（6）(没有)
、
、
、
解析试题分析：从G产物可知F—→G是加聚反应，F是CH=CHCOO(CH2)2OCH=CH2，由反应条件可知E是CH=CHCOO(CH2)2O(CH2)2OH。B是HOCH2CH2OCH2CH2OH，不同的H为3个；由信息①得出A是乙二醇。D为，由反应条件催化氧化可知C是
（6）因为支链只有一个O原子，没有酯类的同分异构体。
考点：有机化学推断，考查有机物的名称、反应类型及方程式、同分异构体的结构简式。
）外，最可能生成的副产物（与G互为同分异构体）的结构简式为 。
）的衍生物X是C的同分异构体，分子中含有2个取代基，且取代基在同一个苯环上；X在NaOH溶液中完全水解后，含萘环的水解产物的核磁共振氢谱有5个峰。写出X可能的结构简式： （任写一种）。
RCOCl。根据已有知识并结合相关信息，写出以苯和乙酸为原料制备
的合成路线流程图（无机试剂任用）。合成路线流程图示例如下：
CH3CH2Br
CH3CH2OH
请回答下列问题：
，则A的结构简式是 ，A在催化剂的作用下通过肽键形成高聚物，试写出该反应的化学方程式 。
在一定条件下发生类似化合物Ⅱ转化为Ⅲ的反应，试写出该反应的化学方程式 。
)，D在弱酸性条件下会缓慢释放出A。合成D的一种方法及各物质间的转化关系如下图所示：
、CH3CH2COOH为原料合成
的合成路线流程图（无机试剂任选）。合成路线流程图示例：
