题目内容

【题目】将铜片在空气中灼烧变黑,趁热伸入下列物质中,铜片的质量发生变化的是(

A. 氢气B. 一氧化碳C. 二氧化碳D. 乙醇蒸汽

【答案】C

【解析】

铜片加热后生成的氧化铜与其他物质能否反应,若反应是否又生成铜。

A、氢气能与铜片加热后表面生成的氧化铜发生反应,将氧化铜还原为铜,铜片的质量不变,选项A不选;

B、一氧化碳能与铜片加热后表面生成的氧化铜发生反应,将氧化铜还原为铜,铜片的质量不变,选项B不选;

C、氧化铜与二氧化碳不反应,铜片因生成的氧化铜而质量增加,选项C选;

D、乙醇蒸汽能与铜片加热后表面生成的氧化铜发生反应,将氧化铜还原为铜,铜片的质量不变,选项D不选;

答案选C。

练习册系列答案
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【题目】硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅的主要方法,其生产过程示意图如图所示.

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式,H2还原SiHCl3过程中若混入O2 , 可能引起的后果是
(2)硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡.写出实验现象其产生原因:
①2O2(g)+N2(g)=N2O4 , (l)△H1
②N2(g)+2H2(g)=N2H4(l)△H2
③O2(g)+2H2(g)=2H2O(g)△H3
④2N2 H4 (1)+N2O4 (1)=3N2 (g)+4H2O(g)△H4=﹣1048.9kJ/mol
上述反应热效应之间的关系式为△H4= , 联氨和N2O4可作为火箭助推剂,折算在标准状况下的数据,燃爆后气体的体积与燃爆前的体积之比为:

N2H4

N2O4

密度/g/cm3

1.004

1.44


(3)联氨为二元弱減,在水中的电离方程式与氨相似,联氨第一步电离反应的平衡常数值为(已知:N2H4+H+N2H5+的K=8.7×107;KW=1.0×1014),.联氨与硫酸形成的酸式盐的化学式为
(4)联氨是一种常用的还原剂.向装有少量AgBr的试管中加入联氨溶液,观察到的现象是 . 联氨可用于处理锅炉水中的氧;防止锅炉被腐蚀,理论上1kg的联氨可除去水中溶解的O2kg;与使用Na2SO3处理水中溶解的O2相比,联氨的优点是

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