题目内容
【题目】常温下，H2C2O4的电离常数：Ka1=5.4×10-2，Ka2=5.0×10-5。在V1mL0.1molL-1H2C2O4溶液中滴加0.1molL-1KOH溶液，混合溶液中水电离的c水（H+）与KOH溶液体积V的关系如图所示。下列说法正确的是（ ）
A.V1=20mL
B.b点和d点对应的溶液中都存在：c（K+）=c（HC2O4-）+2c（C2O42-）
C.常温下，加水稀释b点对应的溶液，稀释后溶液pH减小
D.常温下，KHC2O4的Kh1=2×10-10
【答案】D
【解析】
A．根据图像，能够水解的盐促进水的电离，在V1mL0.1molL-1H2C2O4溶液中滴加0.1molL-1KOH溶液20mL，恰好反应生成K2CrO4，溶液显碱性，此时水电离的c水(H+)最大，因此草酸体积V1=10mL，故A错误；
B．b、d点水电离出氢离子1×10-7mol/L，b点为中性溶液，溶液中存在电荷守恒，c (K+)+c(H+)=c(OH-)+c(HC2O4-)+2c(C2O42-)，中性溶液中得到c (K+)=c(HC2O4-)+2c(C2O42-)，d点为碱性溶液c (K+)＞c(HC2O4-)+2c(C2O42-)，故B错误；
C．常温下加水稀释b点对应的溶液为KHC2O4和K2C2O4的混合溶液，稀释促进草酸氢根离子电离、草酸根离子水解，稀释后溶液pH＞7，故C错误；
D．常温下，C2O42-+H2O=HC2O4-+OH-的Kh1=
=
=2×10-10，故D正确；
故选D。
【题目】NF3（三氟化氮）在常温常压下是无色、无味的气体，是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。回答下列问题：
（1）NF3的电子式为______，N元素的化合价为______。
（2）F2与NH3直接反应生成NF3的化学方程式为______。
（3）实验室模拟工业上利用电解熔融NH4HF2（NH4FHF）法制取NF3，阳极为以Ni为基本材料的合金（内含其他金属，忽略镍及其他金属的反应），阴极为碳素钢，电解废液可回收再利用。
①电解时NF3在______极生成；阴极产生的气体是______（填化学式）。
②电解后废液（含Ni少量Fe和Cu的单质及NH4HF2等）可经如下流程进行回收再利用：
已知该实验条件下，部分金属离子开始沉淀与沉淀完全的pH如下表
金属离子 | Ni2+ | Fe2+ | Cu2+ | Fe3+ |
开始沉淀时的pH | 7.2 | 7.0 | 4.7 | 1.9 |
沉淀完全时的pH | 9.2 | 9.0 | 6.7 | 3.2 |
步骤I的目的是______；步骤Ⅱ滤饼中Ni溶于硝酸的离子方程式为______（HNO3的还原产物为NO）；步骤Ⅲ调节pH时，理论上pH应控制的范围是______。
【题目】铍铜是广泛应用于制造高级弹性元件的良好合金。某科研小组从某旧铍铜元件(含25%BeO、71%CuS、少量FeS和SiO2)中回收铍和铜两种金属的工业流程如下：
已知：i．铍、铝元素化学性质相似能形成BeO22-；ii．常温下部分难溶物的溶度积常数如下表：
难溶物 | Cu(OH)2 | Fe(OH)3 | Mn(OH)2 |
溶度积常数（Ksp） | 2.2×10－20 | 4.0×10－38 | 2.1×10－13 |
(1)用NaOH溶液溶解铍铜元件步骤中提高溶解率的措施是_______。（至少写出两种）滤液A的主要成分除NaOH外，还有_____（填化学式）。
(2)写出反应I中含铍化合物与过量盐酸反应的离子方程式_______，写出反应I中生成固体的化学方程式：________。
(3)滤液C中含NaCl、BeCl2和少量HCl。为提纯BeCl2，最合理的实验步骤顺序为____（填字母）。
a.加入过量的氨水 b.通入过量的CO2 c.加入过量的NaOH
d.加入适量的HCl e.洗涤 f.过滤
(4)MnO2能将金属硫化物中的硫元素氧化为硫单质，写出反应II中CuS发生反应的化学方程式：______。
(5)该小组从1kg该种旧铍铜元件中回收得到433g Cu，则该流程Cu的产率为_______（保留三位有效数字）。