题目内容

已知在25时,氯化银的Ksp1.8×1010,现将足量氯化银分别放入下列溶液中,相同温度下c(Ag)最大的是

A100mL蒸馏水?????????????????????????? B100mL 0.2mol·L-1 AgNO3

C100 mL 0.1mol·L-1AlCl3??????????????? D100mL 0.1 mol·L-1 盐酸

 

【答案】

B

【解析】

试题分析:B、正确,溶液中本身的c(Ag)已经远远大于氯化银电离的c(Ag)

考点:考查难容物的溶解平衡。

 

练习册系列答案
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物质在水中可能存在电离平衡、盐的水解平衡和沉淀的溶解平衡,它们都可看作化学平衡.请根据所学的知识回答:
(1)A为0.1mol/L的(NH42SO4溶液,在该溶液中各种离子的浓度由大到小顺序为
c(NH4+)>c(SO42-)>c(H+)>c(OH-
c(NH4+)>c(SO42-)>c(H+)>c(OH-

(2)B为0.1mol/L NaHCO3溶液,请分析NaHCO3溶液显碱性的原因:
HCO
 
-
3
的水解程度大于其电离程度,溶液中c(OH-)>c(H+),故溶液显碱性
HCO
 
-
3
的水解程度大于其电离程度,溶液中c(OH-)>c(H+),故溶液显碱性

(3)C为FeCl3溶液,实验室中配制FeCl3溶液时常加入
盐酸
盐酸
溶液以抑制其水解,若把B和C溶液混合,将产生红褐色沉淀和无色气体,该反应的离子方程式为
Fe3++3HCO
 
-
3
═Fe(OH)3↓+3CO2
Fe3++3HCO
 
-
3
═Fe(OH)3↓+3CO2

(4)D为含有足量AgCl固体的饱和溶液,AgCl在水中存在沉淀溶解平衡:AgCl(s)?Ag+(aq)+Cl-(aq),在25℃时,氯化银的Ksp=1.8×10-10.现将足量氯化银分别放入:
①100mL蒸馏水中;②100mL 0.2mol/L AgNO3溶液中;③100mL 0.1mol/L氯化铝溶液中;④100mL 0.1mol/L盐酸中,充分搅拌后,相同温度下c(Ag+)由大到小的顺序是
)②>①>④>③
)②>①>④>③
(填写序号);②中氯离子的浓度为
9×10-10
9×10-10
mol/L.
(5)E为CuSO4溶液,已知25℃时,Ksp[Cu(OH)2]=2×10-20.要使0.2mol?L-1 E溶液中Cu2+沉淀较为完全(使Cu2+浓度降至原来的千分之一),则应向溶液里加入NaOH溶液,使溶液的pH为
6
6
氮化硅(Si3N4)是一种优良的高温结构陶瓷,在工业生产和科技领域中有重要用途.

Ⅰ.工业上有多种方法来制备氮化硅,常见的方法:

方法一  直接氮化法:在1 300~1 400℃时,高纯粉状硅与纯氮气化合,其反应方程式为
 

方法二  化学气相沉积法:在高温条件下利用四氯化硅气体、纯氮气、氢气反应生成氮化硅和HCl,与方法一相比,用此法制得的氮化硅纯度较高,其原因是
 

方法三  Si(NH24热分解法:先用四氯化硅与氨气反应生成Si3N4和一种气体
 
(填分子式);然后使Si(NH24受热分解,分解后的另一种产物的分子式为
 

Ⅱ.(1)氮化硅抗腐蚀能力很强,但易被氢氟酸腐蚀,氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐,此盐中存在的化学键类型有
 

(2)已知:25℃,101kPa条件下的热化学方程式:
3Si(s)+2N2(g)═Si3N4(s)△H=-750.2kJ/mol    ①
Si(s)+2C12(g)═SiCl4(g)△H=-609.6kJ/mol    ②
1
2
H2(g)+
1
2
C12(g)═HCl(g)△H=-92.3kJ/mol    ③
请写出四氯化硅气体与氮气、氢气反应的热化学方程式:
 

Ⅲ.工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下:

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已知:X、高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应,Y与X在光照或点燃条件下可反应,Z的焰色呈黄色.
(1)原料B的主要成分是
 
(填化学式).
(2)写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式:
 

(3)上述生产流程中电解A的水溶液时,阳极材料能否用Cu?
 
(填“能”或“不能”).写出Cu为阳极电解A的水溶液开始一段时间阴、阳极的电极反应方程式.阳极:
 
;阴极:
 

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