题目内容

【题目】高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料,又称半导体材料,它的发现和使用曾引起计算机的一场革命。这种材料可以按下列方法制备:

SiO2Si() SiHCl3Si()

1)写出步骤①的化学方程式:___

2)步骤②经过冷凝得到的SiHCl3(沸点为33.0)中含有少量的SiCl4(沸点为57.6)HCl(沸点为-84.7),提纯SiHCl3的主要化学操作的名称是___SiHCl3SiCl4一样遇水可发生剧烈水解,已知SiHCl3水解会生成两种气态产物,请写出其水解的化学方程式:___

3)请写出二氧化硅与氢氟酸反应的化学方程式:___

【答案】SiO2+2C Si+2CO 蒸馏或分馏 SiHCl3+3H2OH2SiO3+H2+3HCl SiO2+4HFSiF4+2H2O

【解析】

1)焦炭在高温下可以置换二氧化硅中的硅;

2)根据熔沸点的不同实现物质分离的方法为蒸馏或分馏;SiHCl3水解生成硅酸、氢气和氯化氢;

3)二氧化硅能和氢氟酸反应生成四氟化硅和水。

1)工业上用焦炭在高温下置换二氧化硅中的硅来制备粗硅,反应的化学方程式为:SiO2+2C Si+2CO↑,故答案为:SiO2+2C Si+2CO↑;

2)由题意可知,SiHCl3(沸点33.0℃)、SiCl4(沸点57.6℃)、HCl(沸点-84.7℃)的沸点不同,根据沸点的不同实现物质分离的方法为蒸馏或分馏;SiHCl3水解生成硅酸、氢气和氯化氢,反应的化学方程式为:SiHCl3+3H2OH2SiO3+H2+3HCl↑,故答案为:蒸馏或分馏;SiHCl3+3H2OH2SiO3+H2+3HCl↑;

3)二氧化硅能和氢氟酸反应生成四氟化硅和水,反应的化学方程式为:SiO2+4HFSiF4+2H2O,故答案为:SiO2+4HFSiF4+2H2O

练习册系列答案
相关题目

违法和不良信息举报电话:027-86699610 举报邮箱:58377363@163.com

精英家教网