题目内容

【题目】高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。这种材料可以按下列方法制备：

SiO2Si(粗) SiHCl3Si(纯)

（1）写出步骤①的化学方程式：___。

（2）步骤②经过冷凝得到的SiHCl3(沸点为33.0℃)中含有少量的SiCl4(沸点为57.6℃)和HCl(沸点为-84.7℃)，提纯SiHCl3的主要化学操作的名称是___；SiHCl3和SiCl4一样遇水可发生剧烈水解，已知SiHCl3水解会生成两种气态产物，请写出其水解的化学方程式：___。

（3）请写出二氧化硅与氢氟酸反应的化学方程式：___。

【答案】SiO2+2C Si+2CO↑ 蒸馏或分馏 SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑ SiO2+4HF═SiF4↑+2H2O

【解析】

（1）焦炭在高温下可以置换二氧化硅中的硅；

（2）根据熔沸点的不同实现物质分离的方法为蒸馏或分馏；SiHCl3水解生成硅酸、氢气和氯化氢；

（3）二氧化硅能和氢氟酸反应生成四氟化硅和水。

（1）工业上用焦炭在高温下置换二氧化硅中的硅来制备粗硅，反应的化学方程式为：SiO2+2C Si+2CO↑，故答案为：SiO2+2C Si+2CO↑；

（2）由题意可知，SiHCl3（沸点33.0℃）、SiCl4（沸点57.6℃）、HCl（沸点-84.7℃）的沸点不同，根据沸点的不同实现物质分离的方法为蒸馏或分馏；SiHCl3水解生成硅酸、氢气和氯化氢，反应的化学方程式为：SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑，故答案为：蒸馏或分馏；SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑；

（3）二氧化硅能和氢氟酸反应生成四氟化硅和水，反应的化学方程式为：SiO2+4HF═SiF4↑+2H2O，故答案为：SiO2+4HF═SiF4↑+2H2O。

练习册系列答案
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B．沉淀剂

C．氧化剂

D．还原剂

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①pH＜6时反应的离子方程式为___________。

②汞的去除速率随pH变化的规律是_________。

（3）锌锰干电池中MnO2可以用碳酸锰在空气中煅烧制得。

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MnCO3(s)=MnO(s)＋CO2(g) H＝+116.6 kJ/mol

碳酸锰在空气中煅烧反应生成MnO2的热化学方程式是_______________。

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