题目内容
【题目】分别向含有下列离子的溶液中加入少量SO3固体后，原溶液中离子的数目不变的是(提示：SO3＋H2O＝H2SO4)( )。
A.Mg2＋B.
C.Ba2＋D.OH-
【答案】A
【解析】
SO3固体溶于水，会与水发生反应产生H2SO4，根据硫酸电离产生的离子与溶液中的离子能否反应，进行分析判断。
SO3固体溶于水，会与水发生反应：SO3+H2O=H2SO4，H2SO4会电离产生H+、SO42-。
A.H+、SO42-与溶液中的Mg2+不能反应，因此溶液中的离子数目不变，A符合题意；
B.H+与溶液中的CO32-能反应，产生H2O、CO2，因此溶液中CO32-的离子数目减少，B不符合题意；
C.SO42-与溶液中的Ba2+能反应产生BaSO4沉淀，因此溶液中的离子数目减少，C不符合题意；
D.H+与溶液中的OH-能反应，产生H2O，因此溶液中OH-的离子数目减少，D不符合题意；
答案选A。
【题目】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500 ℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
a．四氯化硅遇水极易水解；
b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c．有关物质的物理常数见下表：
物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | － | 315 | － |
熔点/℃ | －70.0 | －107.2 | － | － | － |
升华温度/℃ | － | － | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题：
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式：______________________________。
(2)装置F的名称是___________________；装置C中的试剂是_____________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是_____________________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是____(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2＋，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式为5Fe2＋＋MnO4-＋8H＋==5Fe3＋＋Mn2＋＋4H2O。
①滴定前是否要滴加指示剂？________(填“是”或“否”)。
②某同学称取5.000 g残留物，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10－2 mol· L－1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是_____________
