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【题目】高纯的单品硅是重要的半导体材料,工业制取高纯硅的部分反应原理的微观示意图如图,下列有关该反应的说法不正确的是(  )

A. 该反应中共涉及两种单质和两种化合物

B. 反应前后氢原子总数不变

C. 反应前后分子种类和数目不变

D. 化学方程式为SiCl4+2H2Si+4HCl

【答案】C

【解析】

由工业制取高纯硅的部分反应原理的微观示意图和质量守恒定律可知,在高温条件下四氯化硅和氢气反应生成了硅和氯化氢,发生的反应方程式为SiCl4+2H2Si+4HCl

A、由化学方程式可知,该反应中涉及两种化合物和两种单质,故A正确;

B、由质量守恒定律可知,化学反应前后氢原子总数不变,故B正确;

C、由化学反应的实质可知,化学反应前后分子种类一定改变,故C不正确;

D、由微观反应示意图可知,该反应的化学方程式为SiCl4+2H2Si+4HCl,故正确。

故选C

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