题目内容

（10，绵阳9）欲除去物质中所含少许杂质，所用的方法错误的是（  ）
序号
物质
杂质
除去杂质所用方法
A
O2
CO2、H2O
依次通过苛性钠溶液和浓H2SO4
B
CO2
CO
通过灼热的铜网
C
铜粉
铁粉
加适量盐酸，反
应后再过滤
D
火碱溶液
纯碱
加适量石灰水，滤去沉淀
 
B
A：苛性钠除CO2，浓硫酸吸收水。B：CO与灼热的铜网不反应，可改成通过灼热的氧化铜。C：盐酸只与铁粉反应，不能溶解铜粉。D：石灰水与纯碱反应生成碳酸钙沉淀和氢氧化钠，过滤即得烧碱溶液
练习册系列答案
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（09漳州）小明为了区别氢氧化钠溶液和澄清石灰水，设计了下列实验方案，其中能达到目的的是（  ）
（2011年江西，24题）如右图所示A~G是初中化学常见的物质。图中“ ”表示转化关系，“ ”表示相互能反应。已知A是人体胃液中含有的酸，G是最轻的气体，B、C、D、E、F是氧化物。请回答：

（1）G的化学式为     ，E与F反应的基本反应类型是     ，写出物质B的一种用途            ；
（2）C与D反应的化学方程式可能是                    。
(2008·宿迁，)下列说法正确的是             (   )
A．验证NaOH溶液中是否含有SO42-,先加入稀硫酸,再加入BaCl2溶液,有白色沉淀,证明含有SO42-
B．测定溶液的pH,先用水润湿pH试纸，然后将试纸插入待测液中
C．向某无色溶液中滴入酚酞试液呈红色，说明该溶液一定是碱溶液
D．点燃可燃性气体时,要先检验气体纯度,后点燃
（10广州25）硫酸钠是制造纸浆、燃料稀释剂、医药用品等的重要原料。某硫酸钠粗品中含有少量的氯化钙、氯化镁，实验室进行提纯的流程如下：

回答下列问题：
（1）用氢氧化钠和碳酸钠除杂时，反应的化学方程式分别为                                  、                              
（2）氢氧化钠和碳酸钠如果要添加过量了，可加入适量              溶液除去。
（3）“后续处理”的主要操作时蒸发，为了获得纯净的硫酸钠，应蒸发至      （填序号）。
A.完全蒸干时停止加热
B.快干时停止加热，利用余热蒸干
C.有大量固体析出时停止加热，过滤弃去剩余的少量溶液
（4）已知硫酸钠的溶解度随温度变化的曲线如右图所示。40℃时，100g蒸馏水中溶解    g硫酸钠达到饱和。将该饱和溶液升高温度至90℃，观察到的现象是                    。
（10天津市15）.下列除去杂质的方法正确的是
A．除去N2中少量的O2：通过灼热的CuO粉末
B．除去CaO中的少量CaCO3：加入足量的稀盐酸，充分反应
C．除去KCl溶液中的少量MgCl2：加入适量NaOH溶液，过滤
D．除去Cu（NO3）2溶液中的少量Ag NO3：加入足量铜粉，充分反应后过滤
（10镇江14）．下列几种气体可用如图所示装置干燥、收集的正确组合是

①H2 ②O2 ③CO2 ④SO2   ⑤CH4 ⑥NH3
A．①②③B．②③⑤
C．③④⑥D．①⑤⑥
（2011年湖南衡阳，6题）根据你的知识和经验，以下实验在家庭中不能完成的是（  ）
A．除去热水瓶中的水垢
B．区分纯碱和食盐
C．区分硬水和软水
D．除去C和CuO反应后的残留在试管壁上的红色固体
（10连云港25）在上海世博园江苏馆的“春华秋实”展区，用我市东海水晶雕出的作品《寄畅园之冬》吸引了众多参观者的眼球。东海县石国家火炬计划硅胶材料产业化基地，产品由晶莹剔透的成分为SiO2）是制取高纯硅的主要原料，高纯硅又是制造计算机芯片的主要原料。

其生产过程示意图如下：

请你自学上述资料后，回答下列问题
（1）由石英砂制得高纯硅的反应原理中，属于化合反应的是        填数字代号，下同），属于置换反应的是       
（2）粗硅提纯必须在无氧的氛围中进行，除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外，还有一个原因是       
（3）生产过程示意图中的“物质A”用水吸收，可得副产品（一种常见的酸）的名称是       
（4）作为电器、电子、光纤等行业原料的石英砂纯度要求高，需要对普通石英砂（含有少量的CaCO3、Fe2O3）进行提纯，其中酸洗（用盐酸）和高纯水洗是两个最重要的步骤。请写出酸洗步骤中的一个反应的化学方程式     （任写一个）；判断高纯水洗是否洗净的方法是：取少量最后的洗涤液于试管中，向其中滴加AgNO3溶液，若无     现象，则表明残留物已洗净；否则，表明残留物未洗净。

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