题目内容

【题目】化学是从微观角度研究物质性质、组成、结构及其变化规律的科学。根据图示填空:

1)图中ABCD粒子共表示__________种元素。

2BC所形成的化合物的化学式为______

3)晶体硅是制造半导体芯片的原料,如右图E是硅原子的结构示意图,图中x的值是__

4)硅元素的化学性质与ABCD__(填字母序号)元素的化学性质相似。

5)“84消毒液”的成分为次氯酸钠(NaClO) 氯化钠和水,其中NaClO为有效成分,写出氯气与氢氧化钠溶液反应制备“84消毒液”的化学方程式______

【答案】 MgCl2 14 A Cl22NaOH=NaClNaClOH2O

【解析】

1)图中A表示碳原子、B表示镁离子、C表示氯离子、D表示镁原子,粒子共表示碳、镁、氯三种元素。

2)镁离子与氯离子所形成的化合物是氯化镁,化学式为:MgCl2

3)晶体硅是制造半导体芯片的原料,图E是硅原子的结构示意图,核内质子数=核外电子数,x=2+8+4,图中x的值是14

4)硅元素的化学性质与碳元素的化学性质相似,因为最外层电子数相等;

故选:A

5)氯气与氢氧化钠溶液反应产生氯化钠、次氯酸钠和水的化学方程式:Cl22NaOH=NaClNaClOH2O

练习册系列答案
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【题目】实验室制取气体时常要考虑下列问题:

1)选择合理的制取装置。

用如下图所示装置制取气体,请回答下列问题。

①仪器a的名称是__

②选用A加热KMnO4O2,装置需要改进的地方是__,反应的化学方程式为__

③实验室用Zn和稀硫酸制取H2的化学方程式为__

④实验室可用亚硝酸钠(NaNO2)和NH4Cl的饱和溶液加热法制备N2,应选择的发生装置和收集装置的组合是__(写出一种组合,填序号)。

2)检验、除杂和尾气处理。

①通过饱和NaHCO3溶液洗气,可除去CO2中的HCl。洗气时化学反应方程式为__

②实验室制备下列气体时,一般需要进行尾气处理的是__(填序号)。

a H2     b CO    c CO2     d SO2

3)反应装置的改进和反应条件的探究。

某实验小组为了探究影响H2O2分解制取氧气快慢的因素,进行了下列实验:

实验序号

H2O2溶液的质量分数/%

H2O2溶液的体积/ml

温度/

MnO2粉末的用量/g

收集气体的体积/ml

收集气体所需的时间/s

A

5

1

20

0.1

4

a

B

15

1

20

0.1

4

b

C

30

5

35

0.1

4

c

D

30

5

55

0.1

4

d

①欲探究温度对H2O2分解快慢的影响,应该选择的对照实验组是__(填实验序号)。

②该小组利用如下左图所示装置探究MnO2质量对H2O2分解快慢的影响:在三份8.0ml3%H2O2溶液中分别加入0.03g0.06g0.08gMnO2粉末,获得实验数据如下右图所示(温度变化忽略不计,产生氧气的体积与装置内的压强成正比)。通过对曲线图的分析,将推理得出的结论填写在下列空白中。

结论I:在其他条件不变的情况下,所用MnO2质量越大,H2O2的分解速率__

结论II:在其他条件不变的情况下,所用MnO2质量越大,生成氧气的总量__

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