单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图．
相关信息如下：①四氯化硅遇水极易水解；
②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
③有关物质的物理常数见下表：
请回答下列问题：
（1）写出装置A中发生反应的离子方程式______ Mn2++Cl2↑+2H2O
0 67274 67282 67288 67292 67298 67300 67304 67310 67312 67318 67324 67328 67330 67334 67340 67342 67348 67352 67354 67358 67360 67364 67366 67368 67369 67370 67372 67373 67374 67376 67378 67382 67384 67388 67390 67394 67400 67402 67408 67412 67414 67418 67424 67430 67432 67438 67442 67444 67450 67454 67460 67468 203614
相关信息如下：①四氯化硅遇水极易水解；
②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
③有关物质的物理常数见下表：
| 物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
| 沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
| 熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
| 升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
（1）写出装置A中发生反应的离子方程式______ Mn2++Cl2↑+2H2O
结构中含有酯基
Mn2++Cl2↑+2H2O
、CO32-、Br-、K+