硅单质及其化合物应用范围很广,请回答下列问题:
(1) 制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
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①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式 ;H2还原SiHCl3过程中若混02,可能引起的后果是 。
(2)下列有关说法正确的是 (填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.普通玻璃的成分有纯碱、石灰石和石英砂,其熔点很高
D.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入盐酸溶液,振荡,则反应的离子方程式是 。
(原创)(10分)表1是元素周期表的一部分(注意:以下各空所涉及的元素填元素符号,不能用字母代替) 表1
| 族 周期 | ⅠA | ⅡA | ⅢA | ⅣA | ⅤA | ⅥA | ⅦA | O族 |
| 1 | ||||||||
| 2 | G | H | D | |||||
| 3 | B | C | I | E | ||||
| 4 | F | A |
(1)A-H八种元素中(填化学式)
(a)原子半径最小的元素是 ,还原性最强的单质是
(b)最高价氧化物对应水化物酸性最强的是 。
(2)G元素的最高价氧化物的结构式 ;I元素的气态氢化物属于 (极性或非极性)分子;H元素的气态氢化物的空间构型是 .
(3) C元素的离子结构示意图 ,用电子式表示AD2的形成过程 .
用右图装置制取、提纯并收集表中的四种气体(a、b、c表示相应仪器中加入的试剂),其中可行的是
气体 | a | b | c | |
A | NO2 | 浓硝酸 | 铜片 | NaOH溶液 |
B | SO2 | 浓硫酸 | Cu | 浓硫酸 |
C | NH3 | 浓氨水 | 生石灰 | 碱石灰 |
D | CO2 | 稀硫酸 | Na2CO3 | 浓硫酸 |