【题目】硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅的主要方法,其生产过程示意图如图所示.

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式,H2还原SiHCl3过程中若混入O2 , 可能引起的后果是
(2)硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡.写出实验现象其产生原因:
①2O2(g)+N2(g)=N2O4 , (l)△H1
②N2(g)+2H2(g)=N2H4(l)△H2
③O2(g)+2H2(g)=2H2O(g)△H3
④2N2 H4 (1)+N2O4 (1)=3N2 (g)+4H2O(g)△H4=﹣1048.9kJ/mol
上述反应热效应之间的关系式为△H4= , 联氨和N2O4可作为火箭助推剂,折算在标准状况下的数据,燃爆后气体的体积与燃爆前的体积之比为:

N2H4

N2O4

密度/g/cm3

1.004

1.44


(3)联氨为二元弱減,在水中的电离方程式与氨相似,联氨第一步电离反应的平衡常数值为(已知:N2H4+H+N2H5+的K=8.7×107;KW=1.0×1014),.联氨与硫酸形成的酸式盐的化学式为
(4)联氨是一种常用的还原剂.向装有少量AgBr的试管中加入联氨溶液,观察到的现象是 . 联氨可用于处理锅炉水中的氧;防止锅炉被腐蚀,理论上1kg的联氨可除去水中溶解的O2kg;与使用Na2SO3处理水中溶解的O2相比,联氨的优点是

 0  186698  186706  186712  186716  186722  186724  186728  186734  186736  186742  186748  186752  186754  186758  186764  186766  186772  186776  186778  186782  186784  186788  186790  186792  186793  186794  186796  186797  186798  186800  186802  186806  186808  186812  186814  186818  186824  186826  186832  186836  186838  186842  186848  186854  186856  186862  186866  186868  186874  186878  186884  186892  203614 

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