20.硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅的主要方法,其生产过程示意图如图所示.

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式SiHCl3+H2$\frac{\underline{\;1357K\;}}{\;}$Si+3HCl
②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式,H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是高温下,H2遇O2发生爆炸.
(2)硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡.写出实验现象其产生原因:生成白色絮状沉淀,又刺激性气味的气体生成,SiO32-与NH4+发生双水解反应,生成氨气和硅酸沉淀.
①2O2(g)+N2(g)=N2O4,(l)△H1
②N2(g)+2H2(g)=N2H4(l)△H2
③O2(g)+2H2(g)=2H2O(g)△H3
④2N2 H4 (1)+N2O4 (1)=3N2 (g)+4H2O(g)△H4=-1048.9kJ/mol
上述反应热效应之间的关系式为△H4=2△H3-2△H2-△H1,联氨和N2O4可作为火箭助推剂,折算在标准状况下的数据,燃爆后气体的体积与燃爆前的体积之比为:1228.6.
 N2H4N2O4
密度/g/cm31.0041.44
(4)联氨为二元弱減,在水中的电离方程式与氨相似,联氨第一步电离反应的平衡常数值为(已知:N2H4+H+?N2H5+的K=8.7×107;KW=1.0×10-14),.联氨与硫酸形成的酸式盐的化学式为N2H6(HSO42
(5)联氨是一种常用的还原剂.向装有少量AgBr的试管中加入联氨溶液,观察到的现象是固体逐渐变黑,并有气泡产生.联氨可用于处理锅炉水中的氧;防止锅炉被腐蚀,理论上1kg的联氨可除去水中溶解的O21 kg;与使用Na2SO3处理水中溶解的O2相比,联氨的优点是N2H4的用量少,不产生其他杂质(反应产物为N2和H2O),而Na2SO3产生Na2SO4
 0  159629  159637  159643  159647  159653  159655  159659  159665  159667  159673  159679  159683  159685  159689  159695  159697  159703  159707  159709  159713  159715  159719  159721  159723  159724  159725  159727  159728  159729  159731  159733  159737  159739  159743  159745  159749  159755  159757  159763  159767  159769  159773  159779  159785  159787  159793  159797  159799  159805  159809  159815  159823  203614 

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