单晶硅是信息产业中重要的基础材料。工业上可用焦炭与二氧化硅的混合物在高温下与氯气反应生成SiCl4和CO,SiCl4经提纯后用氢气还原得高纯硅。以下是实验室制备SiCl4的装置示意图。

物质

SiCl4

AlCl3

FeCl3

沸点/℃

57.7

315

熔点/℃

-70.0

升华温度/℃

180

300

实验过程中,石英砂中的铁、铝等杂质也能转化为相应氯化物,SiCl4、AlCl3、FeCl3遇水均易水解,有关物质的物理常数见下表:

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式:_____________,

装置D的硬质玻璃管中发生反应的化学方程式 

                         

(2)装置C中的试剂是           ; D、E间导管短且粗的原因是             

(3)G中吸收尾气一段时间后,吸收液中肯定存在OH、Cl和SO。请设计实验,探究该吸收液中可能存在的其他酸根离子(忽略空气中CO2的影响)。

【提出假设】假设1:只有SO;假设2:既无SO也无ClO;假设3:     

【设计方案,进行实验】可供选择的实验试剂有:3 mol/L H2SO4、1 mol/L NaOH、0.01 mol/L KMnO4、溴水、淀粉-KI、品红等溶液。

取少量吸收液于试管中,滴加3 mol/L H2SO4至溶液呈酸性,然后将所得溶液分置于a、b、c三支试管中,分别进行下列实验。请完成下表:

序号

操  作

可能出现的现象

结论

向a试管中滴加几滴          溶液

若溶液褪色

则假设1成立

若溶液不褪色

则假设2或3成立

向b试管中滴加几滴          溶液

若溶液褪色

则假设1或3成立

若溶液不褪色

假设2成立

向c试管中滴加几滴          溶液

              

假设3成立

 0  139190  139198  139204  139208  139214  139216  139220  139226  139228  139234  139240  139244  139246  139250  139256  139258  139264  139268  139270  139274  139276  139280  139282  139284  139285  139286  139288  139289  139290  139292  139294  139298  139300  139304  139306  139310  139316  139318  139324  139328  139330  139334  139340  139346  139348  139354  139358  139360  139366  139370  139376  139384  203614 

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