题目内容

20.下列各对物质,相互间不属于同系物的是(  )
A.CH3-CH═CH2与C2H4B.CH3COOCH3与CH3CH2COOCH3
C.D.CH3CH2Cl与CH3CHClCH3

分析 同系物是指结构相似,分子组成相差1个或n个CH2的化合物,同系物的判断可以根据“两同一差”原则,即同通式同结构组成差n个CH2,互为同系物的化合物满足:1)必符合同一通式 2)必为同类物质 3)组成元素相同 4)结构相似但不一定相同 5)分子式不同,据此进行判断.

解答 解:A.均为烯烃,则CH3-CH═CH2与C2H4之间一定互为同系物,故A错误;
B.CH3COOCH3与CH3CH2COOCH3都属于酯类,二者结构相似,分子间相差1个CH2,二者互为同系物,故B错误;
C.为苯酚,而为苯甲醇,二者含有的官能团不同,则二者不属于同系物,故C正确;
D.CH3CH2Cl与CH3CHClCH3都是一氯代烷,二者结构相似,分子间相差1个CH2,所以二者互为同系物,故D错误;
故选C.

点评 本题考查了同系物的判断,题目难度不大,该题侧重对学生基础知识的检验,同时兼顾对学生能力的培养,意在培养学生灵活运用基础知识解决实际问题的能力,该题的关键是明确同系物的含义和判断依据,然后灵活运用即可.

练习册系列答案
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8.ClO2是一种高效水处理剂,某实验小组用如图所示装置制取并收集ClO2.已知:
信息内容
ClO2为黄绿色气体,极易溶于水,熔点为-59℃,沸点为11℃,具有强氧化性
ClO2易爆炸,若用惰性气体等稀释,则爆炸的可能性大降低
HClO4、HClO2均是强酸,HClO4为无色透明液体,沸点为90℃;HClO2很不稳定,容易分解
(1)仪器a名称是圆底烧瓶.装置A中反应的化学方程式为2KClO3+H2C2O4=K2CO3+CO2↑+2ClO2↑+H2O.用H2C2O4、稀硫酸和KClO3制备ClO2的最大优点是二氧化氯被二氧化碳稀释,可防止二氧化氯爆炸.
(2)装置C的作用是防止倒吸,装置B中用冰水浴的目的是冷凝并分离出二氧化氯.
(3)工业上生产HClO4和NaClO2的工艺流程如图所示.

①操作2的名称是蒸馏;
②设计简单实验证明HClO2为弱酸:在常温下测定NaClO2溶液的PH值,若PH值大于7,则为HClO2弱酸.
(4)ClO2很不稳定,需用随制,产物用水吸收得到ClO2溶液,为测定所得溶液中ClO2的含量,进行下列实验:
步骤1:准确量取V1 mLClO2溶液于锥形瓶中.
步骤2:用稀硫酸调节ClO2溶液的pH≤2.0,加入足量的KI晶体,静置片刻.
步骤3:加入指示剂,用c mol•L-1•的Na2S2O3溶液滴定至终点,消耗Na2S2O3溶液V2mL.
实验中加入的指示剂是淀粉溶液,达到滴定终点时的现象是溶液由蓝色变为无色,且保持30s不变.
原溶液中ClO2的含量为$\frac{13.5cV{\;}_{2}}{V{\;}_{1}}$g/L(用含字母的代数式表示)g•L-1.(已知:2ClO2+8H++10I-═2Cl-+5I2+4H2,2S2O32-+I2═2I-+S2O32-
10.金属的表面处理可以使金属制品美观耐用,我国2000多年前就已经掌握化学镀铬即铬盐氧化处理技术,现代工业中常采用电镀或化学镀进行金属表面处理.请回答:
(1)化学镀金是借助合适的还原剂,使镀液中金属离子还原沉积到金属表面.如化学镀镍是在酸性环境下以NaH2PO2为还原剂(氧化生成NaH2PO3)使Ni2+还原,其离子方程式为Ni2++H2PO2-+H2O=Ni+H2PO3-+2H+

(2)工业上进行电镀时,待镀金属作为阴极.电镀铬若采用Cr3+的简单水溶液,电镀过程中阴极附近的pH与电镀时间的关系如图1,pH变化的原因是H+参与放电,上述过程的发生对镀层产生的影响是镀层变薄且不均匀;
(3)为防止上述过程发生,电镀铬可以在硫酸盐溶液体系中进行,图2为硫酸盐溶液中Cr3+的浓度对镀层厚度和覆盖范围的影响,随厚度增加,镀层覆盖范围变化的原因可能是Cr3+浓度增加会使镀层加厚,但浓度增加铬晶粒变大使覆盖范围变小;
(4)综合考虑镀层厚度及覆盖范围,电镀铬时温度以30~40℃为佳,工业上控制反应温度的设备名称为热交换器;电镀铬的过程中阳极会产生部分Cr2O72-,可以加入AB(填字母)除去;
A.H2O2   B.Na2SO3    C.FeSO4
(5)工业采用含Cr3+为3.25g/L的电解液电镀铬,则溶液pH不能大于4.(已知:35℃时,Kw=2.0×10-14,Ksp[Cr(OH)3]=5.0×10-31

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