题目内容

16.玻璃的主要成分是二氧化硅,能在玻璃上进行雕刻的物质是(  )
A.纯碱B.盐酸C.氢氟酸D.硫酸

分析 二氧化硅性质较为稳定,与硝酸、硫酸、盐酸以及强氧化性物质不反应,在一定条件下可与碱、碱性氧化物、盐以及HF酸反应.

解答 解:A.纯碱与二氧化硅在高温下反应,不能用于在玻璃上进行刻蚀,故A错误;
B.盐酸和二氧化硅不反应,不能用于在玻璃上进行刻蚀,故B错误;
C.氢氟酸与二氧化硅易反应,生产四氟化硅气体,能在玻璃上进行刻蚀,故C正确;
D.硫酸和二氧化硅不反应,不能用于在玻璃上进行刻蚀,故D错误.
故选C.

点评 本题考查二氧化硅的性质,题目难度不大,以识记为主,旨在考查学生对教材中基础知识的积累.

练习册系列答案
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4.根据题目要求填空:
(1)硫、氮的氧化物是主要的大气污染物,对大气的影响之一是导致酸雨.用化学方程式表示NO2形成酸雨的原因:3NO2+H2O=2HNO3+NO,该反应中氧化剂和还原剂的物质的量之比为1:2.
(2)实验室常用的几种气体发生装置如图1A、B、C所示:


?实验室可以用B或C装置制取氨气,如果用B装置,反应的化学方程式是?2NH4Cl+Ca(OH)2$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$CaCl2+2NH3↑+2H2O;如果用C装置,通常使用的药品是浓氨水和氧化钙(或碱石灰、固体氢氧化钠等)(写名称);?图2是某学生设计收集氨气的几种装置,其中可行的是Ⅳ.?若用A装置与D装置相连制取并收集X气体,则X可能是下列气体中的C
A.CO2    B.NO    C.Cl2     D.H2
写出A装置中反应的离子方程式MnO2+4H++2Cl-═Mn2++Cl2↑+2H.
(3)氢化钠(NaH)是一种还原性极强的物质,广泛应用于工业生产.
?氢化钠(NaH)中Na元素的化合价为+1,在高温下氢化钠(NaH)可将四氯化钛(TiCl4)还原成金属钛,该反应的化学方程式为?TiCl4+4NaH $\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$4NaCl+Ti+2H2↑.
?NaH能与水剧烈反应:NaH+H2O═NaOH+H2↑,NaH与液氨(NH3)也有类似反应,该反应的化学方程式为?NaH+NH3═NaNH2+H2↑.如果有12g NaH参加此反应,则转移电子的物质的量为0.5mol

(4)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图3所示(热源及夹持装置均已略去):
SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式:SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+3HCl+H2↑;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是高温下H2与O2混合发生爆炸.

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