Question

下列除杂质的操作方法正确的是（　　）

• A、二氧化硅中有少量的氧化铝：加过量的烧碱溶液后过滤
• B、NH₄Cl中有少量的I₂：通过加热的方法
• C、Na₂CO₃溶液（Na₂SO₄）：加入适量Ba（OH）₂溶液，过滤
• D、CO₂气体（HCl）：通过饱和NaHCO₃溶液后干燥

Answer 1

分析：A、二氧化硅和氧化铝都和氢氧化钠溶液发生反应溶解；
B、氯化铵加热分解生成的氯化氢和氨气重新生成氯化铵，碘单质易升华，加热升华，遇冷凝结；
C、溶液中加入氢氧化钡溶液硫酸根离子和碳酸根离子都会生成沉淀；
D、二氧化碳气体中的氯化氢通过饱和碳酸氢钠溶液可以除去．

解答：解：A、二氧化硅和氧化铝都和氢氧化钠溶液发生反应溶解，不能除杂，故A错误；
B、氯化铵加热分解生成的氯化氢和氨气重新生成氯化铵，碘单质易升华，加热升华，遇冷凝结，不能分离混合物，故B错误；
C、溶液中加入氢氧化钡溶液硫酸根离子和碳酸根离子都会生成沉淀，不能实现除杂的目的，故C错误；
D、二氧化碳气体中的氯化氢通过饱和碳酸氢钠溶液可以除去，同时降低了二氧化碳气体的溶解性，故D正确；
故选D．

点评：本题考查了物质分离提纯的方法和物质性质的分析应用，掌握基础是关键，题目难度中等．