题目内容

12.NA为阿伏伽德罗常数的值.下列说法正确的是(  )
A.2mol/L的Na2CO3溶液中Na+个数为4NA
B.2L 0.5mol/LCH3COOH溶液中含有的H+数为NA
C.含2mol溶质的浓硫酸与足量的Cu反应转移的电子数为2NA
D.1L 2mol/L的K2CO3溶液中CO32-个数小于2NA

分析 A.溶液体积未知;
B.醋酸为弱酸,部分电离;
C.铜只能与浓硫酸反应,与稀硫酸不反应,随着反应的进行,浓硫酸变成稀硫酸,反应停止;
D.碳酸根离子为弱酸根离子,溶液中部分发生水解.

解答 解:A.溶液体积未知,无法计算碳酸钠溶液中钠离子个数,故A错误;
B.2L 0.5mol/LCH3COOH溶液中含有的H+数小于NA,故B错误;
C.铜与浓硫酸的反应中,消耗2mol硫酸会生成1mol二氧化硫,由于随着反应的进行,浓硫酸变成稀硫酸,铜与稀硫酸不反应,所以转移电子数小于2NA,故C错误;
D.碳酸根离子为弱酸根离子,溶液中部分发生水解,所以1L 2mol/L的K2CO3溶液中CO32-个数小于2NA,故D正确;
故选:D.

点评 本题考查阿伏加德罗常数的有关计算和判断,掌握好以物质的量为中心的各化学量与阿伏加德罗常数的关系是解题关键,注意铜与硫酸反应的条件、注意盐类水解、弱电解质的电离方式,题目难度中等.

练习册系列答案
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3.硅是带来人类文明的重要元素之一,从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个又一个奇迹.
(1)新型陶瓷Si3N4的熔点高、硬度大、化学性质稳定.工业上可以采用化学气相沉积法,在H2的保护下,使SiCl4与N2反应生成Si3N4沉积在石墨表面,写出该反应的化学方程.
(2)一种用工业硅(含少量钾、钠、铁、铜的氧化物),已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅.一种合成氮化硅的工艺主要流程如图:

①净化N2和H2时,铜屑的作用是除去原料气中的氧气;硅胶的作用是除去生成的水蒸气.
②在氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)═Si3N4(s)△H=-727.5kJ/mol,开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度该反应为放热反应,防止局部过热,导致硅熔化熔合成团,阻碍与N2的接触;体系中要通入适量的氢气是为了将体系中的氧气转化为水蒸气,而易被除去.
③X可能是硝酸(选填:“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”).
(3)工业上可以通过如下图所示的流程制取纯硅:
①整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应,写出该反应的化学方程式.
②假设每一轮次制备1mol纯硅,且生产过程中硅元素没有损失,反应I中HCl的利用率为90%,反应II中H2的利用率为93.75%.则在第二轮次的生产中,补充投入HCl 和H2的物质的量之比是5:1.

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