电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是:SiO2==SiF4(g)+2H2O== -94.0kJ·mol-1 △S== -75.8J·mol-1·K-1 设△H和△S不随温度变化而变化.试求此反应自发进行的温度条件. 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

题目内容

电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO₂(s)+4HF(g)==SiF₄(g)+2H₂O(g) 其△H（298K）== -94.0kJ·mol^-1 △S(298K)== -75.8J·mol^-1·K^-1 设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应自发进行的温度条件。