题目内容
X、Y、Z、W是常见的四种短周期元素，其原子序数依次增大．其相关信息如下表：
（1）Y位于元素周期表的 周期 族，Y与W的气态氢化物较稳定的是 （写化学式）
（2）Z的单质与W的单质相比熔点较高的是 （写化学式）；Z与W原子半径较大的是 （写化学式）
（3）X的一种氧化物XO2分子中σ键与π键数目之比为
（4）X的第一电离能比W的 （填“大”或“小”）
（5）写出X的单质与Y的最高价氧化物水化物的浓溶液在加热的条件下反应的化学方程式：
（6）已知2.7g Z单质与足量Y单质反应，放出31.8kJ的热量，请写出此反应的热化学方程式： ．
| 元素 | 相关信息 |
| X | X的基态原子最外层电子排布式为nsnnpn |
| Y | Y是空气中含量最高的元素 |
| Z | Z是地壳中含量最高的金属元素 |
| W | W的单质是常见的半导体材料 |
（2）Z的单质与W的单质相比熔点较高的是
（3）X的一种氧化物XO2分子中σ键与π键数目之比为
（4）X的第一电离能比W的
（5）写出X的单质与Y的最高价氧化物水化物的浓溶液在加热的条件下反应的化学方程式：
（6）已知2.7g Z单质与足量Y单质反应，放出31.8kJ的热量，请写出此反应的热化学方程式：
考点：位置结构性质的相互关系应用
专题：
分析：X、Y、Z、W是元素周期表中原子序数依次增大的四种短周期，Y是空气中含量最高的元素，则Y为氮元素；X的基态原子最外层电子排布式为nsnnpn，故X为碳元素；Z是地壳中含量最高的金属元素，则Z为Al元素；W的单质是常见的半导体材料，故W为Si元素，据此解答．
解答：
解：X、Y、Z、W是元素周期表中原子序数依次增大的四种短周期，Y是空气中含量最高的元素，则Y为氮元素；X的基态原子最外层电子排布式为nsnnpn，故X为碳元素；Z是地壳中含量最高的金属元素，则Z为Al元素；W的单质是常见的半导体材料，故W为Si元素；
（1）Y为N元素，N原子核外有2个电子层，最外层电子数为3，处于周期表中第而周期第ⅤA族；非金属性N＞Si，氢化物的稳定性NH3＞SiH4；
故答案为：二、ⅤA；NH3；
（2）同周期元素，从左到右半径逐渐减小，故原子半径Al＞Si；硅是原子晶体，Al是金属晶体，故单质熔点Si＞Al；故答案为：Si、Al；
（3）CO2的结构式为O=C=O，碳氧双键中含有一个σ键和一个π键，故CO2分子中σ键与π键数目之比为1：1；
故答案为：1：1；
（4）同主族元素自上而下元素的第一电离能呈减小趋势，故第一电离能Si＜C；
故答案为：大；
（5）碳和浓硝酸反应生成二氧化碳、二氧化氮和水，反应的化学方程式为C+4HNO3（浓）
CO2↑+4NO2↑+2H2O；
故答案为：C+4HNO3（浓）
CO2↑+4NO2↑+2H2O；
（6）2.7gAl的物质的量为0.1mol，△H=-
=-636kJ/mol，则该反应的热化学方程式为2Al（s）+N2（g）=2AlN（s）△H=-636kJ/mol；
故答案为：2Al（s）+N2（g）=2AlN（s）△H=-636kJ/mol．
（1）Y为N元素，N原子核外有2个电子层，最外层电子数为3，处于周期表中第而周期第ⅤA族；非金属性N＞Si，氢化物的稳定性NH3＞SiH4；
故答案为：二、ⅤA；NH3；
（2）同周期元素，从左到右半径逐渐减小，故原子半径Al＞Si；硅是原子晶体，Al是金属晶体，故单质熔点Si＞Al；故答案为：Si、Al；
（3）CO2的结构式为O=C=O，碳氧双键中含有一个σ键和一个π键，故CO2分子中σ键与π键数目之比为1：1；
故答案为：1：1；
（4）同主族元素自上而下元素的第一电离能呈减小趋势，故第一电离能Si＜C；
故答案为：大；
（5）碳和浓硝酸反应生成二氧化碳、二氧化氮和水，反应的化学方程式为C+4HNO3（浓）
| ||
故答案为：C+4HNO3（浓）
| ||
（6）2.7gAl的物质的量为0.1mol，△H=-
| 31.8kJ×2 |
| 0.1mol |
故答案为：2Al（s）+N2（g）=2AlN（s）△H=-636kJ/mol．
点评：本题以物质结构为基础，考查原子结构、分子结构，元素周期表和元素周期律，反应热的计算及热化学方程式的书写等，题目难度不大，旨在考查学生对基础知识的理解掌握．
练习册系列答案
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