题目内容

18.短周期元素R、T、Q、W在元素周期表中的相对位置如图所示,其中T所处的周期序数与族序数相等.下列判断不正确的是(  )
A.最简单气态氢化物的热稳定性:R>Q
B.最高价氧化物对应水化物的酸性:Q<W
C.原子半径:T>Q>R
D.含T的盐溶液一定能与碱反应

分析 由短周期元素R、T、Q、W的位置,可确定T、Q、W为第三周期的元素,R为第二周期元素,T所处的周期序数与族序数相等,则T为Al元素,故Q为Si元素,W为S元素,R为N元素,结合元素周期律与元素化合物性质解答.

解答 解:由短周期元素R、T、Q、W的位置,可确定T、Q、W为第三周期的元素,R为第二周期元素,T所处的周期序数与族序数相等,则T为Al元素,故Q为Si元素,W为S元素,R为N元素,
A.非金属性N>Si,其最简单气态氢化物的热稳定性:NH3>SiH4,故A正确;
B.非金属性Si<S,其最高价氧化物对应水化物的酸性强弱为:H2SiO3<H2SO4,故B正确;
C.同周期自左而右原子半径减小,同主族自上而下原子半径增大,则原子半径大小为:T>Q>R,故C正确;
D.T为Al,偏铝酸钠为含有铝的盐,但偏铝酸钠不与碱溶液反应,故D错误;
故选D.

点评 本题考查结构性质位置关系应用,题目难度不大,推断元素是解题关键,侧重对元素周期律的考查,明确原子结构与元素周期律、元素周期表的关系为解答关键.

练习册系列答案
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9.硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.四氯甲硅烷(SiCl4)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiCl4制备高纯硅的化学反应方程式SiCl2+2H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+4HCl.
②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiCl4遇水剧烈反应生成H2SiO3和另一种物质,写出配平的化学反应方程式SiCl4+3H2O═H2SiO3↓+4HCl↑.
③为鉴定产品硅中是否含微量铁单质,将试样用稀盐酸溶解,取上层清液后需依次加入的试剂顺序是db.(填写字母代号)
a.碘水    b.氯水    c.NaOH溶液    d.KSCN溶液    e.Na2SO3溶液
(2)下列有头硅材料的说法不正确的是C(填字母).
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B.含4%硅的硅钢具有很高的导磁性,可用作变压器铁芯
C.硅橡胶保持良好的弹性,耐高温但不耐低温.
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编号实验现象
放入蒸馏水木条燃烧
放入Na2SiO3饱和溶液木条不燃烧
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃,是一种防腐剂、防火剂和矿物胶.某同学为了证明Na2SiO3具有防火性能,做如下实验:取两个相同的小木条,分别放入蒸馏水和Na2SiO3饱和溶液中,使之充分吸湿、浸透,取出稍沥干(不再滴液)后,同时分别放置在酒精灯外焰处.观察到的现象如右表:设计实验①的目的是与实验②作对照,证明起防火作用的是Na2SiO3而不是水.

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