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14.下列说法不正确的是(  )
A.因SiO2不溶于水,故H2SiO3不是SiO2对应的酸或者SiO2不是H2SiO3的酸酐
B.CO2通入水玻璃,可以得到硅酸沉淀
C.SiO2是一种空间立体网状结构的晶体,熔点高,硬度大
D.氢氟酸能够腐蚀玻璃,故不能用玻璃瓶来装氢氟酸

分析 A.二氧化硅不溶于水,但二氧化硅是硅酸的酸酐;
B.碳酸酸性强于硅酸,通入水玻璃中得到硅酸沉淀;
C.二氧化硅中每个硅原子周围连有四个氧原子,每个氧原子周围连有2个硅原子,形成原子晶体;
D.氢氟酸(HF)对玻璃有腐蚀作用,故不能用玻璃瓶来盛放氢氟酸.

解答 解:A.含氧酸的分子中,氢、氧原子以水分子的组成比失去后,形成的氧化物叫做该酸的酸酐,所以硅酸(H2SiO3)的酸酐是二氧化硅(SiO2),故A错误;
B.根据强酸制弱酸,二氧化碳通入水玻璃中发生Na2SiO3+H2O+CO2=Na2CO3+H2SiO3↓,故B正确;
C.二氧化硅晶体中Si与O以共价键结合,每个Si原子能形成4个共价键,即每个Si原子结合4个O原子,并向空间伸展成网状结构是属于原子晶体,原子晶体熔点高,硬度大,故C正确;
D.氢氟酸能和玻璃成分二氧化硅反应4HF+SiO2═SiF4↑+2H2O,能够雕刻玻璃,故不能用玻璃瓶来盛放氢氟酸,故D正确;
故选A.

点评 本题主要考查硅及其化合物的性质与应用,注意二氧化硅的晶体类型及性质,侧重于基础知识的考查,题目难度不大.

练习册系列答案
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6.硅是带来人类文明的重要元素之一,从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个有一个奇迹.
(1)新型陶瓷Si3N4的熔点高、硬度大、化学性质稳定.工业上可以采用化学气相沉积法,在H2的保护下,使SiCl4与N2反应生成Si3N4沉积在石墨表面,写出该反应的化学方程式3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
(2)一种用工业硅(含少量钾、钠、铁、铜的氧化物),已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅.一种合成氮化硅的工艺主要流程如图:

①净化N2和H2时,铜屑的作用是:除去原料气中的氧气;硅胶的作用是除去生成的水蒸气.
②在氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)═Si3N4(s)△H=-727.5kJ/mol,开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度该反应为放热反应,防止局部过热,导致硅熔化熔合成团,阻碍与N2的接触;体系中要通入适量的氢气是为了将体系中的氧气转化为水蒸气,而易被除去(或将整个体系中空气排尽).
③X可能是硝酸(选填:“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”).
(3)工业上可以通过如图所示的流程制取纯硅:

①整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应,写出该反应的化学方程式3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl.
②假设每一轮次制备1mol纯硅,且生产过程中硅元素没有损失,反应Ⅰ中HCl的利用率为90%,反应Ⅱ中H2的利用率为93.75%.则在第二轮次的生产中,补充投入HCl和H2的物质的量之比是5:1.

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