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11.下列除杂所用的方法正确的是(  )
A.除去CO2气体中的HCl:通过足量的饱和碳酸钠溶液
B.除去NaCl中少量的MgCl2:溶解后,加入过量的NaOH溶液,过滤后向滤液中加适量的盐酸,蒸发结晶
C.除去FeCl2溶液中的FeCl3:加入足量的铜粉,过滤
D.除去Al2O3中的少量SiO2:加入足量的NaOH溶液,过滤

分析 A.饱和的碳酸钠溶液和CO2、HCl都反应,所以不能用饱和的碳酸钠溶液除去CO2气体中的HCl;
B.除去NaCl中少量的MgCl2:溶解后,加入过量的NaOH溶液,将镁离子转化为氢氧化镁沉淀,过滤后向滤液中加适量的盐酸,蒸发结晶;
C.Cu和FeCl3反应生成FeCl2、CuCl2,引进新的杂质;
D.Al2O3、SiO2都能和NaOH溶液反应生成可溶性钠盐,Al2O3和HF不反应,但SiO2和HF反应生成四氟化硅.

解答 解:A.饱和的碳酸钠溶液和CO2、HCl都反应,所以不能用饱和的碳酸钠溶液除去CO2气体中的HCl,应该用饱和的NaHCO3溶液除去,故A错误;
B.除去NaCl中少量的MgCl2:溶解后,加入过量的NaOH溶液,将镁离子转化为氢氧化镁沉淀,过滤后向滤液中加适量的盐酸,盐酸具有挥发性,所以蒸发结晶得到纯净的NaCl,故B正确;
C.Cu和FeCl3反应生成FeCl2、CuCl2,引进新的杂质,应该用Fe除去氯化铁,然后过滤即可,故C错误;
D.Al2O3、SiO2都能和NaOH溶液反应生成可溶性钠盐,Al2O3和HF不反应,但SiO2和HF反应生成四氟化硅,所以应该用HF除去二氧化硅,故D错误;
故选B.

点评 本题考查物质分离和提纯,为高频考点,明确物质性质差异性是解本题关键,根据物质性质差异性选取合适的除杂剂,结合合适的分离方法来分离提纯物质,注意:除杂时要除去杂质且不能引进新的杂质,易错选项是D.

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