题目内容

15.有关氧化还原反应本质的叙述中,正确的是(  )
A.化合价升高B.失去电子或电子对偏离
C.电子的得失或电子对的偏向D.化合价降低

分析 氧化还原反应的实质水有电子的转移,特征是元素的化合价发生变化.

解答 解:氧化还原反应的实质是有电子的转移,即电子的得失或电子对的偏向,特征是元素的化合价发生变化,
故选A.

点评 本题考查氧化还原反应,题目难度不大,注意相关基础知识的积累,注意把握氧化还原反应的实质.

练习册系列答案
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10.硅及其化合物的开发由来已久,在现代生活中有广泛应用.回答下列问题.
(1)工业上提纯硅有多种路线,其中一种工艺流程示意图及主要反应如图:

发生的主要反应
电弧炉SiO2+2C$\frac{\underline{\;1600-1800℃\;}}{\;}$si+2CO
流化床反应器Si+3HCl$\frac{\underline{\;250-300\;}}{\;}$SiHCl3+H2
还原炉
①还原炉中发生主要反应的化学方程式为SiHCl3+H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+3HCl,该工艺中可循环使用的物质为HCl和H2(填化学式).用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热也可以生产碳化硅,该反应的化学方程式为SiO2+3C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$SiC+2CO↑.
②在流化床反应的产物中,SiHCl3大约占85%,还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有关物质的沸点数据如表,提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和精馏.
物质SiSiCl4SiHCl3SiH2Cl2SiH3ClHClSiH4
沸点/°C235557.631.88.2-30.4-84.9-111.9
③SiHCl3极易水解,其完全水解的化学方程式为SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑.
(2)氮化硅(Si3N4)是一种高温结构材料,粉末状态的Si3N4可以由SiCl4的蒸气和NH3反应制取.粉末状Si3N4遇空气和水都不稳定,但将粉末状的Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185℃的密闭容器中进行热处理,可以制得结构十分紧密、对空气和水都相当稳定的固体材料,同时还得到遇水不稳定的Mg3N2
①由SiCl4和NH3反应制取Si3N4的化学方程式为3SiCl4+4NH3$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
②四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应,使生成的Si3N4沉积在石墨表面可得较高纯度的氮化硅,该反应的化学方程式为3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
③Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185℃的密闭容器中进行热处理的过程中,除生成Mg3N2外,还可能生成SiO2物质(填化学式).热处理后除去MgO和Mg3N2的方法是加足量稀盐酸过滤.

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