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9.下列有关硅及其化合物用途的说法中,正确的是(  )
A.二氧化硅是制造光电池的主要原料
B.硅是现代光学及光纤制品的基本原料
C.可用石英坩埚加热氢氧化钠固体
D.在电子工业中,硅是重要的半导体材料

分析 A.二氧化硅为绝缘体;
B.二氧化硅具有良好的光学特性;
C.石英主要成分为二氧化硅,二氧化硅能够与氢氧化钠反应;
D.硅的导电性介于导体与绝缘体之间.

解答 解:A.硅是良好的半导体材料,是制造光电池的主要原料,故A错误;
B.二氧化硅具有良好的光学特性,是现代光学及光纤制品的基本原料,故B错误;
C.石英主要成分为二氧化硅,二氧化硅能够与氢氧化钠反应,所以不能用石英坩埚加热氢氧化钠固体,故C错误;
D.硅的导电性介于导体与绝缘体之间,在电子工业中,硅是重要的半导体材料,故D正确;
故选:D.

点评 本题考查了硅及二氧化硅用途,熟悉二者的性质是解题关键,题目难度不大,注意对基础知识的积累.

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14.用二氧化氯(ClO2)可制备用途广泛的亚氯酸钠(NaClO2),实验室可用如图所示装置(部分支持装置省略)制备少量的亚氯酸钠.
装置D中发生反应:2ClO2+H2O2+2NaOH═2NaClO2+2H2O+O2
(1)ClO2、O3常被用作消毒剂,等物质的量的ClO2(还原产物为Cl-)、O3(1mol O3转化为1mol O2和1mol H2O),二者消毒效率之比为5:2.
(2)组装好仪器后,检查该装置的气密性的方法是关闭两个弹簧夹,打开A中活塞,向B中注入水,水滴的速度逐渐变慢,最后停止滴入,说明气密性良好.
(3)F中盛有的液体是氢氧化钠溶液;装置E的作用是安全瓶;装置A盛装的是70%~80%的硫酸,不能用较浓的硫酸或较稀的硫酸,原因是太浓的硫酸不利于电离出氢离子,太稀的硫酸会溶解更多二氧化硫,不利于二氧化硫的逸出.
(4)实验开始时,C中发生反应的化学方程式为2NaClO3+SO2═2ClO2+Na2SO4
(5)通过检测发现制备的NaClO2中含有NaOH、Na2SO3或NaOH、Na2SO4等杂质,利用所给试剂设计实验,检测产品中存在Na2SO3,简要说明实验操作,现象和结论:取适量D中的溶液于试管中,加入Ba(OH)2溶液产生白色沉淀,过滤,向白色沉淀中加入稀盐酸,产生气体证明含有亚硫酸钠
(供选择的试剂:Ba(OH)2溶液、品红溶液、H2O2溶液、AgNO3溶液、稀盐酸)
(6)ClO2-的含量可用碘量法测定,当pH≤2.0时,ClO2-能被I-完全还原成Cl-,写出反应的离子方程式ClO2-+4H++4I-=Cl-+2I2+2H2O.
19.工业上常用含硫废水生产Na2S2O3•5H2O,实验室可用如图装置(略去部分夹持仪器)模拟生产过程.

烧瓶C中发生反应如下:
Na2S(aq)+H2O(l)+SO2(g)═Na2SO3(aq)+H2S(aq) (Ⅰ)
2H2S(aq)+SO2(g)═3S(s)+2H2O(l)              (Ⅱ)
S(s)+Na2SO3(aq) $\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$Na2S2O3(aq)               (Ⅲ)
(1)仪器A的名称圆底烧瓶,仪器组装完成后,关闭两端活塞,向装置B中的长颈漏斗内注入液体至形成一段液柱,若液柱高度保持不变,则整个装置气密性良好.装置E中为NaOH溶液.
(2)装置B的作用之一是观察SO2的生成速率,其中的液体最好选择c.
a.蒸馏水   b.饱和Na2SO3溶液   c.饱和NaHSO3溶液  d.饱和NaHCO3溶液
已知反应(Ⅲ)相对较慢,则烧瓶C中反应达到终点的现象是控制滴加硫酸的速度,溶液变澄清(或浑浊消失).反应后期可用酒精灯适当加热仪器A,实验室用酒精灯加热时必须使用石棉网的仪器还有ad.
a.烧杯     b.蒸发皿     c.试管     d.锥形瓶
(3)反应终止后,仪器C中的溶液经蒸发浓缩、冷却结晶即可析出Na2S2O3•5H2O,其中可能含有Na2SO3、Na2SO4等杂质.利用所给试剂设计实验,检测产品中是否存在Na2SO4,简要说明实验操作、现象和结论取少量产品溶于足量稀盐酸、静置、取上层清液(或过滤,取滤液)、滴加BaCl2溶液,若出现沉淀则说明含有Na2SO4杂质.
已知Na2S2O3•5H2O遇酸易分解:S2O 32-+2H+═S↓+SO2↑+H2O
供选择的试剂:稀盐酸、稀硫酸、稀硝酸、BaCl2溶液、AgNO3溶液.

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