工业上制备高纯度单质硅的过程是怎样的? 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

题目内容

工业上制备高纯度单质硅的过程是怎样的？

答案：
解析：

利用焦炭还原二氧化硅，制备粗硅；然后把粗硅与氯气反应制备SiCl₄，利用氢气还原SiCl₄可以获得高纯硅．

练习册系列答案

已知：①MnO₂能将金属硫化物中的硫氧化为单质硫；
②[Cu（NH₃）₄]SO₄常温稳定，在热水中会分解生成NH₃；
③部分金属阳离子生成氢氧化物沉淀的pH范围如下表所示（开始沉淀的pH按金属离子浓度为1.0mol?L^-1计算）：

	开始沉淀的pH	沉淀完全的pH
Fe³⁺	1.1	3.2
Mn ²⁺	8.3	9.8
Cu ²⁺	4.4	6.4

（1）酸浸时，为了提高浸取率可采取的措施有

粉碎矿石（或适当升高温度或搅拌）

（任写一点）．
（2）酸浸时，得到的浸出液中主要含有CuSO₄、MnSO₄等．写出该反应的化学方程式：

2MnO₂+Cu₂S+4H₂SO₄=S↓+2CuSO₄+2MnSO₄+4H₂O

NH₃

（写化学式）．
（5）在该工艺的“加热驱氨”环节，若加热的温度较低或过高，都将造成

碱式碳酸铜减少

的结果．
（6）用标准BaCl₂溶液测定样品中MnSO₄?H₂O质量分数时，发现样品纯度大于100%（测定过程中产生的误差可忽略），其可能原因有

C、高纯度的单质硅被广泛用于制作计算机芯片

D、热的纯碱可用于除油污

X、Y、Z、M、Q、G六种短周期元素，原子序数依次增大。X、Z同主族，可形成离子化合物ZX；Y、M同主族，Y的一种同位素原子常用于测定文物的年代；Q形成的单质为淡黄色固体。请回答下列问题（涉及物质均用化学式表示）。

（1）离子化合物ZX中X离子的结构示意图为； Y在元素周期表中的位置是_______________。

（2）上述元素的最高价氧化物对应的水化物酸性最强的是_______________，Q与G的气态氢化物还原性更强的是__________________。

（3）工业上制备M的高纯度单质，其中一个重要反应是：由MXG₃与X₂在高温下反应。该反应过程必须控制无水无氧，因为MXG₃遇水剧烈反应生成H₂、和，而混入氧气，引起的后果是。

（4）X₂Q的燃烧热为a kJ·mol^-1，下列X₂Q燃烧反应的热化学方程式正确的是。

A．2X₂Q(g) + O₂(g) = 2Q(s) + 2X₂O(g) △H= -2a kJ·mol^-1

B．X₂Q(g) + 2O₂(g) = QO₃(g) + X₂O(l) △H= +a kJ·mol^-1

C．2X₂Q(g)+ 3O₂(g) = 2QO₂(g) + 2X₂O(l) △H= -2a kJ·mol^-1

D．X₂Q(g) + 2O₂(g) = QO₃(g) + X₂O(l) △H= -a kJ·mol^-1

（5）熔融状态下，Z的单质和FeG₂能组成可充电电池（装置示意图如下），反应原理为：2Z + FeG₂ Fe + 2ZG 放电时，电池的正极反应式为: 该电池的电解质为___________________。

辉铜矿主要成分Cu₂S，软锰矿主要成分MnO₂，它们都含有少量SiO₂、Fe₂O₃等杂质。工业上综合利用这两种矿物制备硫酸锰和碱式碳酸铜的主要工艺流程如下：

已知：①MnO₂能将金属硫化物中的硫氧化为单质硫；

②[Cu(NH₃)₄]SO₄常温稳定，在热水中会分解生成NH₃；

③部分金属阳离子生成氢氧化物沉淀的pH范围如下表所示（开始沉淀的pH按金属离子浓度为1.0 mol·L^-1计算）：

	开始沉淀的pH	沉淀完全的pH
Fe³^＋	1.1	3.2
Mn²^＋	8.3	9.8
Cu²^＋	4.4	6.4

（1）酸浸时，为了提高浸取率可采取的措施有（任写一点）。

（2）酸浸时，得到的浸出液中主要含有CuSO₄、MnSO₄等。

写出该反应的化学方程式。

（3）调节浸出液pH的范围为，其目的是。

（4）本工艺中可循环使用的物质是（写化学式）。

（5）在该工艺的“加热驱氨”环节，若加热的温度过低或过高，都将造成的结果。

（6）用标准BaCl₂溶液测定样品中MnSO₄·H₂O质量分数时，发现样品纯度大于100%（测定过程中产生的误差可忽略），其可能原因有 (任写一种)。

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