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8.下列关于各组离子的相关分析正确的是(  )
选项离子组分析
ANa+、Cu2+、SO42-、Cl-能大量共存于同一溶液中,通入过量NH3最终产生蓝色沉淀
BNH4+、Al3+、S2-、Cl-不能大量共存于同一溶液中,因为有Al2S3沉淀产生
CH+、Fe2+、SO42-、Cl-能大量共存于同一溶液中,加入KNO3固体后溶液颜色发生变化
DNa+、K+、HCO3-、OH-不能大量共存于同一溶液中,因为HCO3-与OH-反应有CO2生成
A.AB.BC.CD.D

分析 A.该组离子之间不反应,通入过量NH3生成四氨合铜络离子;
B.Al3+、S2-相互促进水解生成氢氧化铝沉淀和硫化氢气体;
C.该组离子之间不反应,加入KNO3固体,Fe2+、NO3-、H+发生氧化还原反应;
D.HCO3-、OH-结合生成碳酸根离子和水.

解答 解:A.该组离子之间不反应,通入过量NH3生成四氨合铜络离子,不能得到蓝色沉淀,故A错误;
B.Al3+、S2-相互促进水解生成氢氧化铝沉淀和硫化氢气体,不能得到Al2S3沉淀,故B错误;
C.该组离子之间不反应,加入KNO3固体,Fe2+、NO3-、H+发生氧化还原反应生成铁离子,溶液颜色发生变化,故C正确;
D.HCO3-、OH-结合生成碳酸根离子和水,不能生成二氧化碳气体,故D错误;
故选C.

点评 本题考查离子的共存,为高频考点,把握习题中的信息及常见离子之间的反应为解答的关键,侧重氧化还原反应、水解反应的离子共存考查,题目难度不大.

练习册系列答案
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3.硅是带来人类文明的重要元素之一,从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个又一个奇迹.
(1)新型陶瓷Si3N4的熔点高、硬度大、化学性质稳定.工业上可以采用化学气相沉积法,在H2的保护下,使SiCl4与N2反应生成Si3N4沉积在石墨表面,写出该反应的化学方程.
(2)一种用工业硅(含少量钾、钠、铁、铜的氧化物),已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅.一种合成氮化硅的工艺主要流程如图:

①净化N2和H2时,铜屑的作用是除去原料气中的氧气;硅胶的作用是除去生成的水蒸气.
②在氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)═Si3N4(s)△H=-727.5kJ/mol,开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度该反应为放热反应,防止局部过热,导致硅熔化熔合成团,阻碍与N2的接触;体系中要通入适量的氢气是为了将体系中的氧气转化为水蒸气,而易被除去.
③X可能是硝酸(选填:“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”).
(3)工业上可以通过如下图所示的流程制取纯硅:
①整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应,写出该反应的化学方程式.
②假设每一轮次制备1mol纯硅,且生产过程中硅元素没有损失,反应I中HCl的利用率为90%,反应II中H2的利用率为93.75%.则在第二轮次的生产中,补充投入HCl 和H2的物质的量之比是5:1.
13.某位同学在查阅资料时发现含氮化合物有以下性质:
①常温下NO2和N2O4混合存在,低于0℃的过冷水中有无色的N2O4液体或晶体存在;
②浓硝酸与铜、银等不活泼金属反应时除生成NO2气体外还有少量NO生成.
该同学在验证了“性质①”后又设计了如下装置验证“性质②”,同时测定某电器元件中铜银合金材料的含铜量.实验步骤如下:
第一步  检验装置的气密性后加入相关药品;
第二步  打开K1,通入氮气一段时间,关闭K1,打开A中分液漏斗的活塞,向盛有7g铜银合金粉末的圆底烧瓶中滴入13mol•L-1浓硝酸100mL;
第三步 A中反应结束后;
第四步  打开K1,通入氮气一段时间

回答下列问题:
(1)实验前、后都需要打开K1,通入氮气一段时间.
“第二步”中通入氮气是为了排尽装置中的空气,防止生成的NO被氧化;
“第四步”中通过氮气是为了保证反应产生的气体完全被装置E吸收.
(2)“第三步”的目的是验证“性质②”并确保有害气体被完全吸收,请补全实验步骤并写出预测现象;A中反应结束后打开K2,持续通入氧气,D中出现红棕色气体.
(3)实验结束后,通;测量确定装置A烧瓶中溶液的体积为100mL,装置C增重3.22g,装置E增重0.54g(E中N元素均以NO3-的形式存在),不考虑硝酸的挥发与分解以及空气对试剂的影响,则
①装置A烧瓶内溶液中硝酸表现的性质为ab.(填序号)
a.酸性         b.氧化性        c.还原性
②装置A烧瓶内溶液中被还原的硝酸的物质的量为0.08mol;
③实验所用铜银合金中铜的质量分数为22.9%(结果保留3位有效数字)

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