题目内容
下列反应的离子方程式的书写正确的是( )
| A、氢氧化铜与盐酸反应:H++OH-═H2O |
| B、氯气与氢氧化钠溶液反应:Cl2+OH-═Cl-+ClO-+H2O |
| C、利用腐蚀法制作印刷电路板:Fe3++Cu═Fe2++Cu2+ |
| D、在氯化铝溶液中加入过量氨水:Al3++3NH3?H2O═Al(OH)3↓+3NH4+ |
考点:离子方程式的书写
专题:离子反应专题
分析:A.氢氧化铜在离子反应中保留化学式;
B.电荷不守恒、原子不守恒;
C.电子、电荷不守恒;
D.反应生成氢氧化铝和氯化铵,一水合氨在离子反应中保留化学式.
B.电荷不守恒、原子不守恒;
C.电子、电荷不守恒;
D.反应生成氢氧化铝和氯化铵,一水合氨在离子反应中保留化学式.
解答:
解:A.氢氧化铜与盐酸反应的离子反应为2H++Cu(OH)2═2H2O+Cu2+,故A错误;
B.氯气与氢氧化钠溶液反应的离子反应为Cl2+2OH-═Cl-+ClO-+H2O,故B错误;
C.利用腐蚀法制作印刷电路板的离子反应为2Fe3++Cu═2Fe2++Cu2+,故C错误;
D.在氯化铝溶液中加入过量氨水的离子反应为Al3++3NH3?H2O═Al(OH)3↓+3NH4+,故D正确;
故选D.
B.氯气与氢氧化钠溶液反应的离子反应为Cl2+2OH-═Cl-+ClO-+H2O,故B错误;
C.利用腐蚀法制作印刷电路板的离子反应为2Fe3++Cu═2Fe2++Cu2+,故C错误;
D.在氯化铝溶液中加入过量氨水的离子反应为Al3++3NH3?H2O═Al(OH)3↓+3NH4+,故D正确;
故选D.
点评:本题考查离子反应方程式的书写,为高频考点,把握发生的化学反应及离子反应的书写方法为解答的关键,侧重复分解反应及氧化还原反应的考查,注重电子、电荷守恒,题目难度不大.
练习册系列答案
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