题目内容

实验室制取少量干燥的氨气涉及下列装置，其中正确的是　(　　)

A．①是氨气发生装置

B．③是氨气发生装置

C．②是氨气吸收装置

D．④是氨气收集、检验装置

 

B

【解析】

试题分析：因为氯化铵加热时有假“升华”现象，因此不能用氯化铵加热制备氨气，①错误；防倒吸装置中漏斗口与液面接触，但是不能没入溶液中，②错误；用浓氨水和生石灰或者是氢氧化钠溶液可以用该装置制备氨气，③正确；收集氨气采取向下排空气法，为防空气对流应在试管口塞一团棉花，④错误。

考点：氮肥的生产和使用

 

练习册系列答案
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某原电池的总反应的离子方程式是Zn + Cu2+ ＝ Zn2+ + Cu，该原电池的组成正确的是：

 

A

B

C

D

正极

Zn

Ag

Cu

Cu

负极

Cu

Cu

Zn

Zn

电解质溶液

CuCl2

H2SO4

CuSO4

FeCl2

 

 

可以鉴别稀硫酸和浓硫酸的简单方法是　(　　)

A．加酚酞试液 B．与铜片反应

C．加BaCl2溶液和硝酸 D．用玻璃棒各蘸一点滴在纸上

 

在500 mL NaOH溶液中加入足量铝粉，反应完全后共收集到标准状况下的气体33．6 L，该NaOH溶液的浓度为　(　　)

A．1 mol·L-1B．2 mol·L-1

C．1．5 mol·L-1D．3 mol·L-1

 

硝酸铵是含氮量较高的化肥，生产流程如下(产物水均已略去)：

（1）反应④的化学方程式为3NO2+H2O====2HNO3+NO，该反应的氧化剂为　　　　，还原剂为　　　　。

（2）补充并配平反应②的化学方程式：

　　NH3+　　O2　　NO+　　。

（3）化学反应　　　　(填序号)是非氧化还原反应，离子方程式为　。

（4）有人设计了一个反应来制备硝酸：NO2+NH3HNO3+H2O(未配平)，你认为该反应

　　　　(填“能”或“不能”)发生，理由是　 。

 

下列反应中说明NH3既有还原性，又有碱性的是(　　)

A．4NH3+5O24NO+6H2O

B．NH3+HNO3====NH4NO3

C．8NH3+3Cl2====N2+6NH4Cl

D．2NH3+3CuO3Cu+N2+3H2O

 

二氧化硫通入氯化钡溶液中理论上不产生沉淀，而实际受到空气和溶液中氧气的影响很快便能观察到沉淀现象。为了避免产生沉淀，某化学小组设计了如下实验装置，实验操作步骤如下：

①气密性检查完好后，在装置A中的多孔隔板上放上锌粒，通过　　　　　注入稀硫酸、打开活塞，将产生的氢气导入到后续装置。

②　　　　后关闭活塞，将装置D的导管插入烧杯中。

③通过装置B的　　　　　滴加浓硫酸，产生的气体进入到BaCl2溶液中，溶液保持澄清。

④打开活塞，将产生的氢气导入后续装置一段时间。

⑤将盛有BaCl2溶液的试管从装置中取出，拔去橡皮塞用胶头滴管伸入到苯层下方滴加双氧水，随即出现白色浑浊，滴加稀盐酸并振荡，白色浑浊不消失。

⑥拆卸装置，清洗仪器，处理剩余药品。

请回答下列问题：

（1）实验步骤①和③的空白处使用的仪器分别为　　　　　、　　　　　；

（2）装置C中苯的作用是　 ；

（3）实验步骤②的操作为　 ；

（4）实验步骤④的目的是　 ；

（5）写出实验步骤⑤试管中发生反应的化学方程式 

　　　　　　　　　、　 ；

（6）为了避免产生沉淀，你认为还应采取哪些措施，请举一例　 。

 

CCTV对“南澳一号”沉船的考古进行了两个小时的现场直播，从沉船中发现了大量宋代精美瓷器，体现了灿烂的中华文明。青花瓷胎体的原料——高岭土[Al2Si2O5(OH)x]，可掺进瓷石制胎，青花瓷釉料的成分主要是钾长石(KAlSi3O8)，在1 300℃左右一次烧成的釉可形成精美的青花瓷。

（1）下列说法正确的是　　　　。

A．高岭土分子中x=2

B．钾长石能完全溶解在盐酸中形成澄清的溶液

C．烧制青花瓷过程中发生了复杂的物理变化和化学变化

D．青花瓷、玻璃、水泥都属于硅酸盐产品

（2）在“南澳一号”考古直播过程中，需用高纯度SiO2制造的光纤。如图是用海边的石英砂(含氯化钠、氧化铝等杂质)制备二氧化硅粗产品的工艺流程。

①洗涤石英砂的目的是 

　 。

②二氧化硅与氢氧化钠溶液反应的离子方程式是 

　 。

③工业上常用纯净石英砂与C在高温下发生反应制造粗硅，粗硅中含有SiC，其中Si和SiC的物质的量之比为1∶1。下列说法正确的是　　　　。

A．制造粗硅时的反应为2SiO2+5CSi+SiC+4CO↑

B．在以上流程中，将盐酸改为NaOH溶液，也可达到目的

C．纯净的SiO2只能用于制造光导纤维

（3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，其生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 

　 。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式 

　 ；

H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是

 

　 。

 

在MgCl2溶液中能够大量共存的一组离子是　(　　)

A．H+、、Na+、 B．OH-、、K+、

C．、H+、Na+、 D．H+、Ag+、、Ca2+

 

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