Question

298 K时，已知：SiO2(s)＋4HF(g)SiF4(g)＋2H2O(g)　ΔH＝－94.0 kJ/mol，ΔS＝－75.8J/(mol·K)．下列说法正确的是
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A．	工业上用HF除去晶体硅表面的二氧化硅不会对环境产生影响
B．	任何温度下，反应SiO2(s)＋4HF(g)SiF4(g)＋2H2O(g)都能自发进行
C．	要使反应SiO2(s)＋4HF(g)SiF4(g)＋2H2O(g)自发进行，温度应小于1240 K
D．	SiO2(s)和HF(g)的反应是放热反应，所以SiF4(g)和H2O(g)不可能转化为SiO2和HF

Answer 1

答案：C
解析：

点评：本题考查了化学反应自发进行在实际生产中的应用．题目设置新颖，强化了基础知识的灵活应用．