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14.单质Z是一种常见的半导体材料,可由X通过如下图所示的路线制备,其中X为Z的氧化物,Y为氢化物,分子结构与甲烷相似,回答下列问题:

(1)Z在元素周期表中的位置第三周期IVA族,X中化学键的类型是共价键.
(2)由Mg2Z生成Y的化学反应方程式为Mg2Si+4HCl=2 MgCl2+SiH4↑,Y分子的电子式为
(3)能与X发生化学反应的酸是氢氟酸;由X制备Mg2Z的化学方程式为SiO2+4Mg$\frac{\underline{\;加热\;}}{\;}$2MgO+Mg2Si.

分析 单质Z是一种常见的半导体材料,则Z为Si,X为Z的氧化物,则X为SiO2,Y为氢化物,分子结构与甲烷相似,则Y为SiH4,加热SiH4分解得到Si与氢气,据此解答.

解答 解:单质Z是一种常见的半导体材料,则Z为Si,X为Z的氧化物,则X为SiO2,Y为氢化物,分子结构与甲烷相似,则Y为SiH4,加热SiH4分解得到Si与氢气.
(1)Z为Si,在元素周期表中的位置:第三周期IVA族,X为SiO2,含有的化学键属于共价键,
故答案为:第三周期IVA族;共价键;
(2)由Mg2Z生成Y的化学反应方程式为:Mg2Si+4HCl=2 MgCl2+SiH4↑,Y为SiH4,电子式为
故答案为:Mg2Si+4HCl=2 MgCl2+SiH4↑;
(3)能与SiO2发生化学反应的酸是氢氟酸,由SiO2制备Mg2Si的化学方程式为:SiO2+4Mg$\frac{\underline{\;加热\;}}{\;}$2MgO+Mg2Si,
故答案为:氢氟酸;SiO2+4Mg$\frac{\underline{\;加热\;}}{\;}$2MgO+Mg2Si.

点评 本题考查无机物推断,关键是确定Z为硅,再结合转化关系分析,是对学生综合能力的考查,难度中等.

练习册系列答案
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(1)如用下图I装置制取氨气,可选择的试剂是浓氨水与氢氧化钠固体(或浓氨水与碱石灰或浓氨水与生石灰).
(2)制备氨基甲酸铵的装置如图Ⅱ所示,把NH3和CO2通入四氯化碳中,不断搅拌混合,生成的氨基甲酸铵的小晶体悬浮在CCl4中. 当悬浮物较多时,停止制备.

注:CCl4与液体石蜡均为惰性介质.
①发生器用冰水冷却的原因是降低温度,提高反应物转化率(或降低温度,防止因反应放热造成产物分解).液体石蜡鼓泡瓶的作用是通过观察气泡,调节NH3与CO2通入比例(或通过观察气泡,控制NH3与CO2的反应速率).
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a.常压加热烘干               b.高压加热烘干            c.减压40℃以下烘干
(3)制得的氨基甲酸铵可能含有碳酸氢铵、碳酸铵中的一种或两种.
①设计方案,进行成分探究.
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步骤2:向试管中加入过量的BaCl2溶液,静置溶液不变浑浊,证明固体中不含碳酸铵.
步骤3:向试管中继续加入少量澄清石灰水.溶液变浑浊,证明固体中含有碳酸氢铵.
②根据①的结论:取氨基甲酸铵样品6.58g,用足量氢氧化钡溶液充分处理后,过滤、洗涤、干燥,测得沉淀质量为3.94g.则样品中氨基甲酸铵的质量分数为76%..
[保留两位有效数字,已知Mr(NH2COONH4)=78、Mr(NH4HCO3)=79、Mr(BaCO3)=197].

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