晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:
①高温下用过量的碳还原二氧化硅制得粗硅,同时得到一种可燃性气态;
②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3(Si+3HCl=SiHCl3+H2
③SiHCl3与过量的H2在1000℃~1100℃反应制得纯硅,已知SiHCl3能与水强烈反应,在空气中易自燃.请回答:
(1)第一步制取轨的化学方程式
2C+SiO2
 高温 
.
 
Si+2CO↑
2C+SiO2
 高温 
.
 
Si+2CO↑

(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6℃),提纯SiHCl3可采用
蒸馏
蒸馏
的方法.
(3)实验室用SiHCl3与过量的H2反应制取纯硅装置如图所示(加热和夹持装置略去):

①装置B中的试剂是
浓硫酸
浓硫酸
,装置C需水浴加热,目的是
使SiHCl3气化,与氢气反应
使SiHCl3气化,与氢气反应

②反应一段时间后,装置D中可观察到有晶体硅生成,装置D不能采用普通玻璃管的原因是
SiHCl3与过量的H2在1000℃~1100℃反应制得纯硅,温度太高,普通玻璃管易熔化
SiHCl3与过量的H2在1000℃~1100℃反应制得纯硅,温度太高,普通玻璃管易熔化
,D中发生的反应的化学方程式是
SiHCl3+H2=Si+3HCl
SiHCl3+H2=Si+3HCl

③为保证实验的成功,操作的关键除题中已告知的之外,你认为最重要的还有:
装置要严密
装置要严密
控制好温度
控制好温度
.(答出两点)
 0  37852  37860  37866  37870  37876  37878  37882  37888  37890  37896  37902  37906  37908  37912  37918  37920  37926  37930  37932  37936  37938  37942  37944  37946  37947  37948  37950  37951  37952  37954  37956  37960  37962  37966  37968  37972  37978  37980  37986  37990  37992  37996  38002  38008  38010  38016  38020  38022  38028  38032  38038  38046  211419 

违法和不良信息举报电话:027-86699610 举报邮箱:58377363@163.com

精英家教网