题目内容

芯片是计算机的心脏,制造计算机的芯片需要大量的高纯硅,生产高纯硅的主要原料是石英砂(主要成分为SiO2).二氧化硅既不溶于水,也不溶于一般的酸溶液,工业上生产高纯硅的主要流程如图所示.
请回答下列问题:
(1)写出上述流程中由石英砂制取高纯硅的有关化学方程式:①
 
;②
 
;③
 

(2)在整个制备过程中必须达到无水无氧,若在H2还原SiHCl2过程中混入O2,可能引起的后果是
 
.为了达到乐色化学和节约资源的目的,物质A需要循环使用,若“物质A”用水吸收,可得副产品(一种常见的酸)的名称是
 

(3)作为制造计算机芯片所用高纯硅原料的石英石(沙子).纯度要求高,需要对普通沙子(含有少量的CaCO3、Fe2O3 )进行提纯,其中用酸洗(用盐酸)和高纯水洗是两个最重要的步骤,请写出用酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是
 
 
考点:物质的相互转化和制备,酸的化学性质,碳的化学性质,书写化学方程式、文字表达式、电离方程式
专题:物质的制备
分析:(1)根据二氧化硅和碳在高温的条件下生成粗硅和一氧化碳,粗硅和氯化氢在加热的条件下生成SiHCl3和氢气,氢气和SiHCl3在高温的条件下生成硅和氯化氢进行分析;
(2)根据具可能燃性的氢气与氧气混合,点燃时可能产生爆炸;
根据此过程发生的反应③可判断生成氯化氢气体,氯化氢极易溶于水而形成盐酸进行分析;
(3)根据碳酸钙、氧化铁都可与盐酸发生复分解反应进行分析.
解答:解:(1)二氧化硅和碳在高温的条件下生成粗硅和一氧化碳,化学方程式为:SiO2+2C
 高温 
.
 
Si(粗)+2CO↑;
粗硅和氯化氢在加热的条件下生成SiHCl3和氢气,化学方程式为:Si(粗)+3HCl
  △  
.
 
SiHCl3+H2
氢气和SiHCl3在高温的条件下生成硅和氯化氢,化学方程式为:SiHCl3+H2
 高温 
.
 
Si(纯)+3HCl;
(2)反应中使用氢气,氢气若与氧气混合易引起爆炸,因此必须在无氧的氛围中进行;
根据反应的化学方程式可判断物质A为HCl,溶于水可得到盐酸溶液;
(3)碳酸钙与盐酸反应生成氯化钙、水和二氧化碳,氧化铁与盐酸反应生成氯化铁和水,化学方程式为:CaCO3+2HCl═CaCl2+CO2↑+H2O,Fe2O3+6HCl═2FeCl3+3H2O.
故答案为:(1)SiO2+2C
 高温 
.
 
Si(粗)+2CO↑;Si(粗)+3HCl
  △  
.
 
SiHCl3+H2;SiHCl3+H2
 高温 
.
 
Si(纯)+3HCl;
(2)氧气进去与氢气混合引起爆炸,盐酸;
(3)CaCO3+2HCl═CaCl2+CO2↑+H2O,Fe2O3+6HCl═2FeCl3+3H2O.
点评:对知识进行迁移解决情形相似的新问题是本题的特点,体现出知识运用与问题分析的能力.
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