摘要：(3)生成白色絮状沉淀.有刺激性气味的气体生成,与发生双水解反应.+2+2H2O====2NH3?H2O+H2SiO3↓
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如下表，为了证实(Ⅰ)项中的结论，请从(Ⅱ)项中选出相应的实验方法，并从(Ⅲ)项中选出所观察到的相应的实验现象.将每题正确答案的标号填写在答案栏里.
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(Ⅰ)实验结论 |
(Ⅱ)实验方法 |
(Ⅲ)实验现象 |
答案 |
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(Ⅰ) |
(Ⅱ) |
(Ⅲ) |
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1．汽油中含有少量水 2．长期放置的FeSO4 溶液变质 3．长期放置的KI酸性 溶液中含有少量碘 4．一种元色有刺激性 气味的气体是SO2 5．粗食盐中含有少量 钾盐 |
A．加BaCl2溶液 B．加淀粉溶液 C．加酚酞溶液 D．加品红溶液 E．加盐酸 F．加无水硫酸铜 G．加AgNO3溶液 H．进行焰色反应 Ⅰ．加饱和氯水 J．加KSCN溶液 |
a．有气泡产生 b．有不溶于酸的白色沉淀产生 c．显蓝色 d．呈黄色 e．显红色 f．红色褪去 g．显紫红色 h．有白色絮状沉淀生成，最后呈红褐色 i．显浅紫色(透过蓝色钴玻璃) j．有不溶于酸的黄色沉淀产生 |
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如下表，为了证实(Ⅰ)项中的结论，请从(Ⅱ)项中选出相应的实验方法，并从(Ⅲ)项中选出所观察到的相应的实验现象.将每题正确答案的标号填写在答案栏里.
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(Ⅰ)实验结论 |
(Ⅱ)实验方法 |
(Ⅲ)实验现象 |
答案 |
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(Ⅰ) |
(Ⅱ) |
(Ⅲ) |
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1．汽油中含有少量水 2．长期放置的FeSO4 溶液变质 3．长期放置的KI酸性 溶液中含有少量碘 4．一种元色有刺激性 气味的气体是SO2 5．粗食盐中含有少量 钾盐 |
A．加BaCl2溶液 B．加淀粉溶液 C．加酚酞溶液 D．加品红溶液 E．加盐酸 F．加无水硫酸铜 G．加AgNO3溶液 H．进行焰色反应 Ⅰ．加饱和氯水 J．加KSCN溶液 |
a．有气泡产生 b．有不溶于酸的白色沉淀产生 c．显蓝色 d．呈黄色 e．显红色 f．红色褪去 g．显紫红色 h．有白色絮状沉淀生成，最后呈红褐色 i．显浅紫色(透过蓝色钴玻璃) j．有不溶于酸的黄色沉淀产生 |
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甲是一种盐，由A、B、C、D、E五种元素组成，其中四种是短周期元素．甲溶于水后可电离出三种离子，其中一种由A、B组成的10电子阳离子．B元素有一种核素没有中子，A元素原子核内质子数比E的少1，D、E处于同主族．
用甲进行如下实验：
①取少量甲的晶体溶于蒸馏水配成溶液；
②取少量甲溶液于试管中滴入KSCN溶液，无现象，再滴入氯水，溶液呈红色；
③取少量甲溶液于试管中加入适量NaOH溶液，加热；
④取少量甲溶液于试管中，向其中加入稀盐酸，再加入BaCl2溶液，出现白色沉淀．
回答下列问题：
（1）D的元素符号是
（2）用离子方程式表示实验②中现象的原因：
（3）实验③中出现的现象是
（4）经测定甲晶体的摩尔质量为392g/mol，其中阳离子与阴离子物质的量之比为3：2，则甲晶体的化学式为
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用甲进行如下实验：
①取少量甲的晶体溶于蒸馏水配成溶液；
②取少量甲溶液于试管中滴入KSCN溶液，无现象，再滴入氯水，溶液呈红色；
③取少量甲溶液于试管中加入适量NaOH溶液，加热；
④取少量甲溶液于试管中，向其中加入稀盐酸，再加入BaCl2溶液，出现白色沉淀．
回答下列问题：
（1）D的元素符号是
S
S
，C在周期表中的位置第四周期第Ⅷ族
第四周期第Ⅷ族
；（2）用离子方程式表示实验②中现象的原因：
2Fe2++Cl2=2Cl-+2Fe3+
2Fe2++Cl2=2Cl-+2Fe3+
；Fe3++3SCN-?Fe（SCN）3
Fe3++3SCN-?Fe（SCN）3
；（3）实验③中出现的现象是
有白色絮状沉淀生成，迅速变成灰绿色，最终变成红褐色，加热有大量刺激性气味气体生成
有白色絮状沉淀生成，迅速变成灰绿色，最终变成红褐色，加热有大量刺激性气味气体生成
；（4）经测定甲晶体的摩尔质量为392g/mol，其中阳离子与阴离子物质的量之比为3：2，则甲晶体的化学式为
（NH4）2Fe（SO4）2?6H2O
（NH4）2Fe（SO4）2?6H2O
．（2008?广东）硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式
（2）下列有关硅材料的说法正确的是
A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高
D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡．写出实验现象并给予解释
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（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
SiHCl3+H2
Si+3HCl
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SiHCl3+H2
Si+3HCl
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②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式
3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
；H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是高温下，H2遇O2发生爆炸
高温下，H2遇O2发生爆炸
．（2）下列有关硅材料的说法正确的是
ABCD
ABCD
（填字母）．A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高
D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡．写出实验现象并给予解释
生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
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