摘要:②洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl.选用的试剂为 .
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下列叙述正确的是( )
A、蒸馏操作时应将温度计的水银球插入液面下 | B、冷浓硫酸保存在敞口的铅制的容器中 | C、洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl,选用的试剂为饱和NaCl溶液或者75%乙醇 | D、为了使过滤速率加快,可用玻璃棒在过滤器中轻轻搅拌,加速液体流动 |
工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅.
1.原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用.精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加入的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是________(填序号)洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl,选用的试剂为________.(填序号)
(①饱和Na2CO3溶液 ②饱和K2CO3溶液 ③75%乙醇 ④四氯化碳)
2.下图是离子交换膜(允许钠离子通过,不允许氢氧根与氯离子通过)法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是________;NaOH溶液的出口为________(填字母);精制饱和食盐水的进口为________(填字母);干燥塔中应使用的液体是________.
Ⅰ.工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅.
(1)原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用.精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加入的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是______(填序号)洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl,选用的试剂为______.(填序号)(①饱和Na2CO3溶液 ②饱和K2CO3溶液 ③75%乙醇 ④四氯化碳)
(2)如图是离子交换膜(允许钠离子通过,不允许氢氧根与氯离子通过)法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是______;NaOH溶液的出口为______(填字母);精制饱和食盐水的进口为______(填字母);干燥塔中应使用的液体是______.
Ⅱ.多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注.
(1)SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为______ SiO2+4HCl 查看习题详情和答案>>
(1)原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用.精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加入的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是______(填序号)洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl,选用的试剂为______.(填序号)(①饱和Na2CO3溶液 ②饱和K2CO3溶液 ③75%乙醇 ④四氯化碳)
(2)如图是离子交换膜(允许钠离子通过,不允许氢氧根与氯离子通过)法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是______;NaOH溶液的出口为______(填字母);精制饱和食盐水的进口为______(填字母);干燥塔中应使用的液体是______.
Ⅱ.多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注.
(1)SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为______ SiO2+4HCl 查看习题详情和答案>>
(2012?长宁区一模)Ⅰ.工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅.
(1)原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用.精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加入的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是
(2)如图是离子交换膜(允许钠离子通过,不允许氢氧根与氯离子通过)法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是
Ⅱ.多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注.
(1)SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为
(2)SiCl4可转化为SiHCl3而循环使用.一定条件下,在20L恒容密闭容器中的反应:
3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)?4SiHCl3(g)
达平衡后,H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的质量为
(3)实验室制备H2和Cl2通常采用下列反应:
Zn+H2SO4→ZnSO4+H2↑;MnO2+4HCl(浓)
MnCl2+Cl2↑+2H2O
据此,从下列所给仪器装置中选择制备并收集H2的装置
可选用制备气体的装置:
(4)采用无膜电解槽电解饱和食盐水,可制取氯酸钠,同时生成氢气,现制得氯酸钠213.0kg,则生成氢气
某工厂生产硼砂过程中产生的固体废料,主要含有MgCO3、MgSiO3、CaMg(CO3)2、Al2O3和Fe2O3等,回收其中镁的工艺流程如下:
Ⅲ.部分阳离子以氢氧化物形式完全沉淀时溶液的pH见上表,请回答下列问题:
(1)“浸出”步骤中,为提高镁的浸出率,可采取的措施有
(2)滤渣I的主要成分是
Mg(ClO3)2在农业上可用作脱叶剂、催熟剂,可采用复分解反应制备:
MgCl2+2NaClO3→Mg(ClO3)2+2NaCl
已知四种化合物的溶解度(S)随温度(T)变化曲线如图所示:
(3)将反应物按化学反应方程式计量数比混合制备Mg(ClO3)2.简述可制备Mg(ClO3)2的原因:
(4)按题(3)中条件进行制备实验.在冷却降温析出Mg(ClO3)2过程中,常伴有NaCl析出,原因是:
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(1)原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用.精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加入的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是
③①②
③①②
(填序号)洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl,选用的试剂为③
③
.(填序号)(①饱和Na2CO3溶液 ②饱和K2CO3溶液 ③75%乙醇 ④四氯化碳)(2)如图是离子交换膜(允许钠离子通过,不允许氢氧根与氯离子通过)法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是
氯气
氯气
;NaOH溶液的出口为a
a
(填字母);精制饱和食盐水的进口为d
d
(填字母);干燥塔中应使用的液体是浓硫酸
浓硫酸
.Ⅱ.多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注.
(1)SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为
SiCl4+2H2+O2
SiO2+4HCl
| ||
SiCl4+2H2+O2
SiO2+4HCl
.
| ||
(2)SiCl4可转化为SiHCl3而循环使用.一定条件下,在20L恒容密闭容器中的反应:
3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)?4SiHCl3(g)
达平衡后,H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的质量为
0.351
0.351
kg.(3)实验室制备H2和Cl2通常采用下列反应:
Zn+H2SO4→ZnSO4+H2↑;MnO2+4HCl(浓)
△ |
据此,从下列所给仪器装置中选择制备并收集H2的装置
e
e
(填代号)和制备并收集干燥、纯净Cl2的装置d
d
(填代号).可选用制备气体的装置:
(4)采用无膜电解槽电解饱和食盐水,可制取氯酸钠,同时生成氢气,现制得氯酸钠213.0kg,则生成氢气
134.4
134.4
m3(标准状况).(忽略可能存在的其他反应)某工厂生产硼砂过程中产生的固体废料,主要含有MgCO3、MgSiO3、CaMg(CO3)2、Al2O3和Fe2O3等,回收其中镁的工艺流程如下:
沉淀物 | Fe(OH)3 | Al(OH)3 | Mg(OH)2 |
PH | 3.2 | 5.2 | 12.4 |
(1)“浸出”步骤中,为提高镁的浸出率,可采取的措施有
适当提高反应温度、增加浸出时间
适当提高反应温度、增加浸出时间
(要求写出两条).(2)滤渣I的主要成分是
Fe(OH)3、Al(OH)3
Fe(OH)3、Al(OH)3
.Mg(ClO3)2在农业上可用作脱叶剂、催熟剂,可采用复分解反应制备:
MgCl2+2NaClO3→Mg(ClO3)2+2NaCl
已知四种化合物的溶解度(S)随温度(T)变化曲线如图所示:
(3)将反应物按化学反应方程式计量数比混合制备Mg(ClO3)2.简述可制备Mg(ClO3)2的原因:
在某一温度时,NaCl最先达到饱和析出;Mg(ClO3)2的溶解度随温度变化的最大,NaCl的溶解度与其他物质的溶解度有一定的差别;
在某一温度时,NaCl最先达到饱和析出;Mg(ClO3)2的溶解度随温度变化的最大,NaCl的溶解度与其他物质的溶解度有一定的差别;
.(4)按题(3)中条件进行制备实验.在冷却降温析出Mg(ClO3)2过程中,常伴有NaCl析出,原因是:
降温前,溶液中NaCl已达饱和,降低过程中,NaCl溶解度会降低,会少量析出;
降温前,溶液中NaCl已达饱和,降低过程中,NaCl溶解度会降低,会少量析出;
.除去产品中该杂质的方法是:重结晶
重结晶
.食盐是日常生活的必需品,也是重要的化工原料。
Ⅰ 粗食盐常含有少量K+、Ca2+、Mg2+、SO42-等杂质离子,实验室提纯NaCl的流程如下
Ⅰ 粗食盐常含有少量K+、Ca2+、Mg2+、SO42-等杂质离子,实验室提纯NaCl的流程如下
提供的试剂:饱和Na2CO3溶液 饱和K2CO3溶液 NaOH溶液 BaCl2溶液 Ba(NO3)2溶液 75%乙醇 四氯化碳 冷水
① 欲除去溶液Ⅰ中的Ca2+、Mg2+、SO42-离子,选出a所代表的试剂,按滴加顺序依次为
____________(只填化学式)。
②洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl,选用的试剂为__________________。
③在整个实验过程中,下列实验装置不可能用到的是_____________(填序号)。
① 欲除去溶液Ⅰ中的Ca2+、Mg2+、SO42-离子,选出a所代表的试剂,按滴加顺序依次为
____________(只填化学式)。
②洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl,选用的试剂为__________________。
③在整个实验过程中,下列实验装置不可能用到的是_____________(填序号)。
④【有关资料】
溶液Ⅰ中加入试剂a,只要控制溶液pH=12可确保Mg2+除尽,根据提供的数据计算,此时滤液中Mg2+物质的量浓度将被控制在__________以下。
Ⅱ 我国化学工程专家侯德榜创立的侯氏制碱法,食盐是其中的主要原料。实验室根据侯氏制碱法并参考下表数据,制备纯碱的主要步骤是:将配置好的NaCl饱和溶液倒入烧杯中加热,控制一定温度范围,搅拌下分批加入研细的NH4HCO3固体,加料完毕后,继续保温30min,静置、过滤得晶体NaHCO3。用少量蒸馏水洗涤除去杂质,抽干后,转入蒸发皿中,灼烧2h,制得Na2CO3固体。
Ⅱ 我国化学工程专家侯德榜创立的侯氏制碱法,食盐是其中的主要原料。实验室根据侯氏制碱法并参考下表数据,制备纯碱的主要步骤是:将配置好的NaCl饱和溶液倒入烧杯中加热,控制一定温度范围,搅拌下分批加入研细的NH4HCO3固体,加料完毕后,继续保温30min,静置、过滤得晶体NaHCO3。用少量蒸馏水洗涤除去杂质,抽干后,转入蒸发皿中,灼烧2h,制得Na2CO3固体。
※ 温度高于35℃,NH4HCO3会有分解请回答:该反应的方程式:_________________
操作过程中反应温度控制在30℃ <t<_______为控制此温度范围,采取的加热方式为________________。
Ⅲ 电解饱和食盐水的装置如图所示,若收集的H2为2L,则同样条件下收集的Cl2 ________ (填“>”、“=”或 “<”)2L,原因是___________________ 。装置改进后,可用于制备NaOH溶液,若测定溶液中 NaOH的浓度,常用的方法为________________。装置b口出来气体的检验方法:_______________________。
操作过程中反应温度控制在30℃ <t<_______为控制此温度范围,采取的加热方式为________________。
Ⅲ 电解饱和食盐水的装置如图所示,若收集的H2为2L,则同样条件下收集的Cl2 ________ (填“>”、“=”或 “<”)2L,原因是___________________ 。装置改进后,可用于制备NaOH溶液,若测定溶液中 NaOH的浓度,常用的方法为________________。装置b口出来气体的检验方法:_______________________。