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晶体硅是一种重要的非金属材料。制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅。
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3： Si + 3HCl SiHCl3 + H2
③ SiHCl3与过量H2在1000～1100℃反应制得纯硅。
已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。
请回答下列问题：
（1）第①步制备粗硅的化学反应方程式为 。
（2）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3（沸点33.0℃）中含有少量
SiCl4（沸点57.6℃）和HCl（沸点－84.7℃），提纯SiHCl3采用的方法为：
。
（3）用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）：
①装置B中的试剂是 ，装置C中的烧瓶需要加热，
其目的是： 。
②装置D不能采用普通玻璃管的原因是 ，
装置D中发生反应的化学方程式为 。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及 。
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如下：
① 高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅 300℃
②粗硅与干燥 HCl气体反应制得 SiHCl3：Si +3HCl =====SiHCl3+H2
③SiHCl3 与过量 H2 在 1000~1100℃反应制得纯硅
已知 SiHCl3，能与 H2O强烈反应，在空气中易自燃。
请回答下列问题：
（1）第①步制备粗硅的化学反应方程式为 __________________。
（2）粗硅与HCl反映完全后,经冷凝得到的SiHCl3（沸点 33.0℃）中含有少量 SiCl4（沸点
57.6℃）和 HCl（沸点-84.7℃），提纯 SiHCl3 采用的方法为。
（3）用 SiHCl3 与过量 H2 反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）：
①装置 B中的试剂是 ______________。
装置 C中的烧瓶需要加热，其目的是 _____________________。
②反应一段时间后，装置 D中观察到的现象是 _________________，装置 D不能采用普通玻璃管的原因是__________________ ，装置D中发生反应的化学方程式为_______________ 。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以
及____________________ 。
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂（填写字母代号）是____________ 。
a． 碘水 b．氯水 c．NaOH溶液
b． d．KSCN溶液 e．Na2SO3 溶液
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①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3 ：Si + 3HCl（g）
SiHCl3 + H2（g）
③SiHCl3与过量H2在1000-1100℃反应制得纯硅：
SiHCl3（g） + H2（g）
Si（s）+ 3HCl（g）
已知SiHCl3能与H2O剧烈反应，且在空气中易自燃。
用SiHCI3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）
(1)装置B中的试剂是
(2)反应一段时间后，装置D中观察到的现象是 ，装置D不能采用普通玻璃管的原因是 。
(3)为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及 。
(4)为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂是 。（填写字母代号）
a．碘水 b.氯水 c. NaOH溶液 d. KSCN溶液 e. Na2SO3溶液
查看习题详情和答案>>(5分)晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3：Si + 3HCl（g）
SiHCl3 + H2（g）
③SiHCl3与过量H2在1000-1100℃反应制得纯硅：
SiHCl3（g）+ H2（g）
Si（s）+ 3HCl（g）
已知SiHCl3能与H2O剧烈反应，且在空气中易自燃。
用SiHCI3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）
(1)装置B中的试剂是
(2)反应一段时间后，装置D中观察到的现象是 ，装置D不能采用普通玻璃管的原因是 。
(3)为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及 。
(4)为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂是 。（填写字母代号）
a．碘水 b.氯水 c. NaOH溶液 d. KSCN溶液 e. Na2SO3溶液
(5分)晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3 ：Si + 3HCl（g）
SiHCl3 + H2（g）
③SiHCl3与过量H2在1000-1100℃反应制得纯硅：
SiHCl3（g） + H2（g）
Si（s）+ 3HCl（g）
已知SiHCl3能与H2O剧烈反应，且在空气中易自燃。
用SiHCI3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）
(1)装置B中的试剂是
(2)反应一段时间后，装置D中观察到的现象是 ，装置D不能采用普通玻璃管的原因是 。
(3)为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及 。
(4)为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂是 。（填写字母代号）
a．碘水 b.氯水 c. NaOH溶液 d. KSCN溶液 e. Na2SO3溶液
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