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T℃时，将气体X与气体Y置于一密闭容器中，反应生成气体Z，反应过程中各物质的浓度变化如图(Ⅰ)所示．保持其他条件不变，在T1、T2两种温度下，Y的体积分数变化如图(Ⅱ)所示．下列结论正确的是
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| [ ] | |
A． |
t2时，保持其它条件和物质状态不变，增加压强，化学平衡向逆反应方向移动 |
B． |
T℃时，若密闭容器中各物质起始浓度为：0.4 mol/L X、0.4 mol/L Y、0.2 mol/L Z．保持其他条件不变，达到平衡时z的浓度为0.4 mol/L |
C． |
图(Ⅱ)中T1＞T2，正反应是吸热反应 |
D． |
其他条件不变，若升高温度，正、逆反应速率均增大，且X的转化率增大 |
J、L、M、R、T是原子序数依次增大的短周期主族元素，J、R在周期表中的相对位置如右表；J元素最低负化合价的绝对值与其原子最外层电子数相等；M是地壳中含量最多的金属元素。
（1）M的离子结构示意图为_____;元素T在周期表中位于第_____族。
（2）J和氢组成的化合物分子有6个原子，其结构简式为______。
(3)M和T形成的化合物在潮湿的空气中冒白色烟雾，反应的化学方程式为_____。
（4）L的最简单气态氢化物甲的水溶液显碱性。
①在微电子工业中，甲的水溶液可作刻蚀剂H2O2 的清除剂，所发生反应的产物不污染环境，其化学方程式为______。
②一定条件下，甲在固定体积的密闭容器中发生分解反应（△H>0）并达平衡后，仅改变下表中反应条件x，该平衡体系中随x递增y递减的是_______（选填序号）。
| 选项 | a | b | c | d |
| x | 温度 | 温度 | 加入H2的物质的量 | 加入甲的物质的量 |
| y | 甲的物质的量 | 平衡常数K | 甲的转化率 | 生成物物质的量总和 |
（5）由J、R形成的液态化合物JR2 0．2mol在O2中完全燃烧，生成两种气态氧化物，298K时放出热量215kj。 该反应的热化学方程式为________。
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(2)J和氢组成的化合物分子有6个原子，其结构简式为____。
(3)M和T形成的化合物在潮湿的空气中冒白色烟雾，反应的化学方程式为____________。
(4)L的最简单气态氢化物甲的水溶液显碱性。 ①在微电子工业中，甲的水溶液可作刻蚀剂H2O2的清除剂，所发生反应的产物不污染环境，其化学方程式为____________________。
②一定条件下，甲在固定体积的密闭容器中发生分解反应(△H>0)并达平衡后，仅改变下表中反应条件x，该平衡体系中随x递增y递减的是____________（选填序号）。
（2）J和氢组成的化合物分子有6个原子，其结构简式为___________。
（3）M和T形成的化合物在潮湿的空气中冒白色烟雾，反应的化学方程式为 ___________________。（4）L的最简单气态氢化物甲的水溶液显碱性。
①在微电子工业中，甲的水溶液可作刻蚀剂H2O2的清除剂，所发生反应的产物不污染环境，其化学方程式为__________________________________。
②一定条件下，甲在固定体积的密闭容器中发生分解反应(△H>O)并达平衡后，仪改变下表中反应条件x，该平衡体系中随x递增y递减的是____（选填序号）。
(2)J和氢组成的化合物分子有6个原子，其结构简式为________。
(3)M和T形成的化合物在潮湿的空气中冒白色烟雾，反应的化学方程式为____________________。
(4)L的最简单气态氢化物甲的水溶液显碱性。
①在微电子工业中，甲的水溶液可作刻蚀剂H2O2的清除剂，所发生反应的产物不污染环境，其化学方程式为______________________；
②一定条件下，甲在固定体积的密闭容器中发生分解反应(ΔH>0)并达平衡后，仅改变下表中反应条件x，该平衡体系中随x递增y递减的是________(选填序号)。
kJ。该反应的热化学方程式为_________________________。