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已知:G是一种常用的药用有机物,合成路线如图所示:
①有机物A和C都能与FeCl3发生显色反应,且取代基处于邻位
②有机物G只含碳、氢、氧元素且式量小于200,氧元素的质量分数为35.56%。
请回答:
(1)写出A、C、K的结构简式A________C________K__________
(2)反应①~⑨中,属于取代反应的有______________(填序号)
(3)写出F的常见同分异构体与F在浓硫酸条件下的反应_____________________
(4)写出G在加热条件下与NaOH溶液反应的化学方程式_______________________
(5)写出反应⑥的方程式____________________。
查看习题详情和答案>>(15分)已知:G是一种常用的药用有机物,合成路线如图所示:
①有机物A和C都能与FeCl3发生显色反应,且取代基处于邻位
②有机物G只含碳、氢、氧元素且式量小于200,氧元素的质量分数为35.56%。
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(1)写出A、C、K的结构简式A________C________K__________
(2)反应①~⑨中,属于取代反应的有______________(填序号)
(3)写出F的常见同分异构体与F在浓硫酸条件下的反应_____________________
(4)写出G在加热条件下与NaOH溶液反应的化学方程式_______________________
(5)写出反应⑥的方程式____________________。
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①有机物A和C都能与FeCl3发生显色反应,且取代基处于邻位
②有机物G只含碳、氢、氧元素且式量小于200,氧元素的质量分数为35.56%。
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(2)反应①~⑨中,属于取代反应的有______________(填序号)
(3)写出F的常见同分异构体与F在浓硫酸条件下的反应_____________________
(4)写出G在加热条件下与NaOH溶液反应的化学方程式_______________________
(5)写出反应⑥的方程式____________________。
(15分)已知:G是一种常用的药用有机物,合成路线如图所示:
①有机物A和C都能与FeCl3发生显色反应,且取代基处于邻位
②有机物G只含碳、氢、氧元素且式量小于200,氧元素的质量分数为35.56%。
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(2)反应①~⑨中,属于取代反应的有______________(填序号)
(3)写出F的常见同分异构体与F在浓硫酸条件下的反应_____________________
(4)写出G在加热条件下与NaOH溶液反应的化学方程式_______________________
(5)写出反应⑥的方程式____________________。
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①有机物A和C都能与FeCl3发生显色反应,且取代基处于邻位
②有机物G只含碳、氢、氧元素且式量小于200,氧元素的质量分数为35.56%。
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(2)反应①~⑨中,属于取代反应的有______________(填序号)
(3)写出F的常见同分异构体与F在浓硫酸条件下的反应_____________________
(4)写出G在加热条件下与NaOH溶液反应的化学方程式_______________________
(5)写出反应⑥的方程式____________________。