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摘要:3.半导体材料--硅.锗.硒
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氯气是十分重要的化工原料.它的用途十分广泛,除用于净水、环境消毒外,还用于生产盐酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等.
(1)工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉,写出该反应的化学方程式
Ca(OH)
2
+2Cl
2
=CaCl
2
+Ca(ClO)
2
+2H
2
O
Ca(OH)
2
+2Cl
2
=CaCl
2
+Ca(ClO)
2
+2H
2
O
(2)工业上生产半导体材料硅的流程如下:
①写出在制备粗硅时反应的化学方程式
SiO
2
+2C
高温
.
Si+2CO↑
SiO
2
+2C
高温
.
Si+2CO↑
,在该反应的化学方程式上用单线桥标出电子的转移方向和数目
.
②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅中常混有一些高沸点,难挥发性杂质,必须进行分离提纯.其提纯方法为
A
A
.(填序号)
A.蒸馏 B.过滤 C.萃取 D.结晶
③由四氯化硅通入氢气得到高纯硅和氯化氢气体,写出该反应的化学方程式:
SiCl
4
+2H
2
高温
.
Si+4HCl↑
SiCl
4
+2H
2
高温
.
Si+4HCl↑
.
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氯碱工业中,通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料:氯气、氢气和氢氧化钠.其中氯气用途十分广泛,除用于净水、环境消毒外,还用于生产盐酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等.
(1)工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉,漂白粉为
混合物
混合物
(填“纯净物”或“混合物”),制备漂白粉的化学方程式为
Ca(OH)
2
+2Cl
2
=CaCl
2
+Ca(ClO)
2
+2H
2
O
Ca(OH)
2
+2Cl
2
=CaCl
2
+Ca(ClO)
2
+2H
2
O
.
(2)工业上生产半导体材料硅的流程如图所示:
①石英砂的主要成分是二氧化硅,在制备粗硅时,焦炭的作用是
还原剂
还原剂
.(填“氧化剂”或“还原剂”)
②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅,其中常混有一些高沸点、难挥发性杂质,必须进行分离提纯.其提纯方法为
A
A
.(填字母)
A.蒸馏 B.过滤 C.萃取 D.蒸发
③四氯化硅与氢气在高温条件下反应得到高纯硅和氯化氢气体,写出该反应的化学方程式:
SiCl
4
+2H
2
高温
.
Si+4HCl↑
SiCl
4
+2H
2
高温
.
Si+4HCl↑
.
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碳酸钠和碳酸氢钠是生活中常见的物质.请回答下列问题.
(1)碳酸钠俗称
,等物质的量的碳酸钠和碳酸氢钠与足量盐酸反应时生成CO
2
的量,前者
后者(填>、<或=).
(2)碳酸氢钠可治疗胃酸(0.2%~0.4%的盐酸)过多,反应的离子方程式为:
.
(3)现有以下物质:①NaCl晶体 ②熔融的KNO
3
③氨水 ④铝 ⑤Cl
2
⑥酒精(C
2
H
5
OH)
请回答下列问题(用序号):
以上物质中能导电的是
;以上物质中属于强电解质的是
.
(4)SiO
2
广泛存在自然界中,其用途也非常广泛,可用于制造光导纤维,也用于生产半导体材料硅.写出工业上用石英制备粗硅的化学反应方程式
.
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氯碱工业中,通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料,其产物中的氯气用途十分广泛,除用于净水、环境消毒外,还用于生产盐酸、聚氯乙烯、氯苯等.
(1电解食盐水的离子方程式为
.氯气用于生产半导体材料硅的流程如下:
①石英砂的主要成分的化学式为
,在制备粗硅时,焦炭的作用是
.
②粗硅与氯气反应后得到的液态四氯化硅中常混有一些杂质,必须进行分离提纯.其提纯方法为
.
③由四氯化硅得到高纯硅的化学方程式为:
.
高温
(2)用于制造塑料薄膜、人造革、塑料管材和板材的聚氯乙烯(PVC塑料)就是以氯气和乙烯为主要原料通过
、消去和
三步主要反应生产的,这三步的化学方程式分别为:
、CH
2
Cl=CH
2
Cl
高温
.
CH
2
=CHCl+HCl、
.
(3)上述两种生产过程可得到同一种副产品,该副产品是
.
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氯气用途十分广泛,可用于生产半导体材料硅,其生产流程如图,下列说法不正确的是( )
A、①③是置换反应,②是化合反应
B、高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅的
C、任一反应中,每消耗或生成28 g硅,均转移4 mol电子
D、高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅
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