摘要：晶体硅是一种重要的非金属材料.制备纯硅的主要步骤如下: ①高温下用过量的碳还原二氧化硅制得粗硅, ②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3 (Si+3HCl→SiHCl3+H2) ③SiHCl3与过量的H2在1000℃~1100℃反应制得纯硅.已知SiHCl3能与水强烈反应.在空气中易自燃. 请回答: (1)第一步制取粗硅的化学方程式 (2)粗硅与HCl反应完全后.经冷凝得到的SiHCl3中含有少量SiCl4和HCl.提纯SiHCl3可采用 的方法. (3)实验室用SiHCl3与过量的H2反应制取纯硅的装置如图所示: ① 装置B中的试剂是 .装置C需水浴加热.目的是 . ② 反应一段时间后.装置D中可观察到有晶体硅生成.装置D不能采用普通玻璃管的原因是 .D中发生的反应的化学方程式是 . ③ 为保证实验的成功.操作的关键除题中已告知的之外.你认为最重 要的还有: .
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晶体硅是一种重要的非金属材料，在现代电子工业中具有非常重要的应用．工业上制备高纯硅的主要步骤如下：
（1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是
A．石英的主要成分是SiO2
B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
（2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过“操作A”提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是
（3）整个制备过程必须严格控制无水无氧．H2还原SiCl4过程中发生的反应是：
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（1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是
ABD
ABD
．A．石英的主要成分是SiO2
B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
（2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过“操作A”提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是
蒸馏（分馏、精馏均可）
蒸馏（分馏、精馏均可）
．（3）整个制备过程必须严格控制无水无氧．H2还原SiCl4过程中发生的反应是：
2H2+SiCl4
Si+4HCl
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2H2+SiCl4
Si+4HCl
在该过程中若有O2混入，可能引起的后果是
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引起爆炸
引起爆炸
．
晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅：SiO2+2C
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②粗硅与干燥的Cl2反应制得SiCl4：Si+2C12
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③SiCl4被过量的H2在1 000～1 100℃时还原制得纯硅：SiCl4+2H2
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某同学从资料中查知：SiCl4的熔点为-7O℃，沸点为57.6℃，且在潮湿的空气中能发生水解反应．该同学设计了如下制取纯硅的实验装置（热源及夹持装置已略去）．请回答下列问题：
（1）使SiCl4从装置B中逸出与H2充分混合，应采取的措施是
对装置B水浴加热
对装置B水浴加热
．（2）装置C不能采用普通玻璃管的原因是
在1000-1100℃时普通玻璃管会软化
在1000-1100℃时普通玻璃管会软化
，石英的化学式是SiO2
SiO2
．（3）如果从装置A中快速向装置B中通入气体，可能观察到的现象是
B中液面上方产生少量白雾，液体中有少量白色胶状物生成
B中液面上方产生少量白雾，液体中有少量白色胶状物生成
．（4）为防止空气污染，含有SiCl4的尾气要通入盛有
NaOH
NaOH
溶液的烧杯中，反应的化学方程式为SiCl4+6NaOH=Na2SiO3+4NaCl+3H2O
SiCl4+6NaOH=Na2SiO3+4NaCl+3H2O
．（5）为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度，还应对该装置进行的改进是
在装置A与B之间连接一盛有浓硫酸的洗气瓶（或盛有碱石灰的干燥管）．
在装置A与B之间连接一盛有浓硫酸的洗气瓶（或盛有碱石灰的干燥管）．
．晶体硅是一种重要的非金属材料，制备高纯硅的主要流程如图所示：
已知SiHCl3能与H2O强烈反应，生成一种可燃烧的单质气体和两种酸．请回答下列问题：
（1）写出制备粗硅的化学方程式
（2）在生成SiHCl3的反应中，还原剂与还原产物的质量比为
（3）整个制备过程必须控制无水无氧，若有水可能发生的反应是
（4）下列关于硅及其化合物的叙述错误的是
A．二氧化硅晶体中硅氧原子间以共价键结合
B．用于现代通讯的光导纤维的主要成分是高纯度的硅
C．硅与碳位于同一主族，性质相似，在自然界中广泛存在着游离态的硅
D．SiO2和CO2都是酸性氧化物，均可与强碱（如NaOH）溶液反应，而不与任何酸反应．
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已知SiHCl3能与H2O强烈反应，生成一种可燃烧的单质气体和两种酸．请回答下列问题：
（1）写出制备粗硅的化学方程式
SiO2+2C
Si+2CO
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SiO2+2C
Si+2CO
．
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（2）在生成SiHCl3的反应中，还原剂与还原产物的质量比为
14：1
14：1
．（3）整个制备过程必须控制无水无氧，若有水可能发生的反应是
3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
CO+H2
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3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
CO+H2
．
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（4）下列关于硅及其化合物的叙述错误的是
B C D
B C D
（填字母代号）A．二氧化硅晶体中硅氧原子间以共价键结合
B．用于现代通讯的光导纤维的主要成分是高纯度的硅
C．硅与碳位于同一主族，性质相似，在自然界中广泛存在着游离态的硅
D．SiO2和CO2都是酸性氧化物，均可与强碱（如NaOH）溶液反应，而不与任何酸反应．
晶体硅是一种重要的非金属材料，SiHCl3与过量H2在1000～1100℃反应制得纯硅，已知液态SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃．
请回答下列问题：
用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）：
①装置B中的试剂是 ．装置C中的烧瓶需要加热，其目的是 ．
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是 ，装置D不能采用普通玻璃管的原因是 ，装置D中发生反应的化学方程式为 ．
③为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂（填写字母代号）是 ．
a．碘水 b．NaNO3溶液 c．NaOH溶液 d．KSCN溶液．
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请回答下列问题：
用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）：
①装置B中的试剂是
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是
③为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂（填写字母代号）是
a．碘水 b．NaNO3溶液 c．NaOH溶液 d．KSCN溶液．
晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
③SiHCl3与过量H2在1 000—1
已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。
请完成下列问题：
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为______________________________。
(2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3(沸点
(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)：
①装置B中的试剂是_______________________。装置C中的烧瓶需要加热，其目的是___________________________________。
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是__________________________，装置D不能采用普通玻璃管的原因是___________________________________，装置D中发生反应的化学方程式为_______________________________________。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及________________________________。
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