下列有关溶液性质的叙述，正确的是

A、室温时饱和的二氧化碳水溶液，冷却到0⁰C时，会放出CO₂气体。

B、20⁰C，100g水可溶解34.2gKCl，此时KCl的饱和溶液的质量分数为34.2%

C、强电解质在水中溶解度一定大于弱电解质

D、相同温度下，把水面上的空气换成相同压强的纯氧，100g水中溶入氧气的质量增加

X、Y、Z、W均为含有10电子的微粒，W为金属阳离子，X、Y、Z常温下为气体，
（1）已知： W + X + H₂O → 白色沉淀。
①若实验室用下图所示装置、干燥和收集装置制取并收集干燥的X，A中分液漏斗中的液态试剂的仪器的名称是________，仪器的连接顺序为a→________________________；

②由W离子形成的可溶性盐WCl_n，其水溶液显_________性，原因是(用离子方程式表示)_____________________________________________________
③为进一步确定W，进行如下实验，请补全实验操作、现象和结论：取上述白色沉淀少量置于试管中，_____________________________________________________
（2）常温下，取10 mLpH= a的Y的稀溶液，加水稀释时pH随溶液体积V的变化如图所示，则①Y的化学式为__________。

②下列有关Y的叙述正确的是__________

清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一，硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质（如某些有机物，无机盐，金属、Si、SiO₂粉尘等）。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物，通常用一定浓度的HF溶液，室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面，增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反应25～35 min，效果良好。

回答下列问题

（1）能否用玻璃试剂瓶来盛HF溶液，为什么?用化学方程式加以解释                           ；

（2）写出晶片制绒反应的离子方程式                                    ，对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型，他指出Si与NaOH溶液的反应，首先是Si与OH^一反应，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反应中氧化剂为                     。

（3）本校化学兴趣小组同学，为验证Seidel的理论是否正确，完成以下实验：

结论：从实验上说明碱性水溶液条件下，H₂O可作                 剂；NaOH作               剂，降低反应             。高温无水环境下，NaOH作               剂。

（4）在太阳能电池表面沉积深蓝色减反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）与氨气（NH₃）在等离子体中反应。硅烷是一种无色、有毒气体，常温下与空气和水剧烈反应。下列关于硅烷、氮化硅的叙述不正确的是                。

A．在使用硅烷时要注意隔离空气和水，SiH₄能与水发生氧化还原反应生成H₂；

B．硅烷与氨气反应的化学方程式为：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反应中NH₃作氧化剂；

C．它们具有卓越的抗氧化、绝缘性能和隔绝性能，化学稳定性很好，不与任何酸、碱反应；

D．氮化硅晶体中只存在共价键，Si₃N₄是优良的新型无机非金属材料。